简介：本文报道了作者在同步辐射X射线光刻研究中的一些新进展，其中，最细尺寸已达50纳米。

简介：摘要：近年来，随着工业领域如微型机械制造、集成电路制造、生物医疗等众多领域的不断发展，与之相关的设备对精度的要求也越来越高。而被誉为半导体工业皇冠上明珠的光刻机，集合了高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、自动化、图像识别等多项顶尖技术，是超精密加工技术的集大成机器。其中，运动台系统用于定位晶圆做精细运动，主要包括搬移、掩膜、对位、焦距校准等，是光刻机最为核心的分系统之一。在光刻过程中，要求扫描和定位精度要达到纳米级，则需要同时追求运动指标和精度指标。因此，本论文针对光刻机运动台系统，从复合控制、同步控制以及主动减振控制三个角度进行控制方法的研究，以提升光刻机的曝光质量和产率。

简介：介绍数字光处理(Digitallightprocessing,DLP)技术在3D打印中的应用,分析影响该技术打印精度的几个主要因素,研究阵列式数字光刻技术的方法,用于提升打印分辨率,并实现其控制系统,讨论该技术在应用中需要注意的主要问题,通过实验数据分析比较使用该技术后精度的提升情况,总结该技术方法在应用上的优势与不足。

简介：在0．18υm高压产品工艺生产过程中，作者发现晶片在钨化学机械研磨制程后会有很严重的鸽剥落缺陷，此种缺陷成行排列，有一定规律，与光罩的曝光间膈距离相匹配，该缺陷会导致产品良率有非常明显的下降。同时在生产过程中也发现在MIM上极板蚀刻后，有些聚合物难以去除，此种残留物也来自曝光的固定位置。因此解决这类与光罩相关的缺陷和残留物显得尤为重要。作者经过深入的研究分析以及实验验证，通过对切割道上的光罩对准标记进行优化，彻底解决了这两种缺陷问题，使得产品的良率得以提升。

简介：火锅有很多种,但是加上重庆两个字的火锅,它就只有一种.重庆火锅之于重庆人,是极富辨识度的.这种辨识度,来源于重庆这座拥有两江众多码头的山城;来源于重庆人舌尖上对麻辣刺激到一种近乎偏执的顽固;这种辨识度,更来源于,一张方桌一口圆锅之上亲人闲聊家常的情愫.说起火锅,即便是在美国留学和工作长达10年的刘露霜总能滔滔不绝地说上个把小时.因为在家乡重庆,火锅这种已经习以为常到骨髓里的美食符号,却让这个每每思而不得的异乡人,总愿意花时间去思考和体味家乡味道和时光的事.

简介：摘要：使用RE215L锥板粘度计对光刻胶样品的表观粘度进行了测试，通过分析转动时间，转速及扭矩等因素对光刻胶粘度的影响，验证了转速对粘度，扭矩对粘度之间存在一定的线性关系。并对光刻胶的粘度测试方法进行了探索，验证合适的扭矩对粘度的测量具有重要的意义，可为光刻胶粘度的测定及在基板上方涂布应用提供参考价值。

简介：摘要：使用RE215L锥板粘度计对光刻胶样品的表观粘度进行了测试，通过分析转动时间，转速及扭矩等因素对光刻胶粘度的影响，验证了转速对粘度，扭矩对粘度之间存在一定的线性关系。并对光刻胶的粘度测试方法进行了探索，验证合适的扭矩对粘度的测量具有重要的意义，可为光刻胶粘度的测定及在基板上方涂布应用提供参考价值。

简介：中微半导体在刚刚召开的2009年IC市场年会上喜获设备类创新产品和技术大奖。此次“中国半导体创新产品和技术”评选活动是由权威机构中国半导体行业协会、中国电子材料行业协会、中国电子专用设备工业协会，中国电子报共同举办并经评选委员会按照评审条件和程序进行严格的综合评价。

简介：对比了ICP刻蚀和湿法腐蚀制备台面型InP/InGaAs雪崩光电二极管(APD)时侧壁、表面形貌的不同,以及对暗电流和击穿电压的影响。在Cl2/Ar2/CH4条件下感应耦合等离子体(ICP)刻蚀InP会出现表面粗糙,对其原因进行了探究。并主要对ICP的刻蚀时间和刻蚀功率进行了优化,提高刻蚀表面的温度,保证了刻蚀的稳定性并改善了InP刻蚀表面的形貌,确定了稳定制备APD器件的刻蚀条件,最终制备出性能优良的台面型APD器件。

简介：光刻空间像仿真作为各种计算光刻技术的基础,受到越来越多的重视。提出一种基于互强度傅里叶分析的光刻机投影成像快速模拟方法,从光刻成像互强度传播过程入手,基于傅里叶光学原理对成像要素进行多次空域-频域变换,得到一种快捷的空间像模拟途径。通过与标准解析空间像对比,发现该方法的计算精度可达10-4(最大光强归一化)。该方法避免了部分相干成像的Hopkins方程中繁琐的积分运算,操作性强、计算精度高。该方法适用于各种灵活多变的曝光成像条件,具备广阔的工程应用前景。

简介：先进节点逻辑集成电路制造是当前工业界的领先工艺。为实现接触（Contact）层的光刻工艺,需要从两个关键方面进行处理：解析度和全间距的共有工艺窗口。离轴照明＋相移掩模＋亚解析度辅助图形多种解析度增强技术的组合使用是解决光刻成像的方法。从优化接触层离轴照明的类型方面解决光刻制造工艺的问题。

简介：   摘要：我国的光刻机研究工作在缓慢前进，光刻机是超大规模集成电路芯片制造环节中的重要设备。我国拥有超强的工业和制造业基础和实力。并且有完善的供应链和产业链，这为我国光刻机的研发和制造提供了优势。许多外国品牌，高质量零件都是在我国生产制造后出口的。光刻机制造巨头阿斯麦尔也在我国各地设置了公司。许多优秀的人才和技术工人被外国公司优先挑选走，只因为对方愿意付出更多的试错成本，开出的工资更诱人。光刻机的制成，国人有很大的付出，但并不被西方承认。于是，我们必须肩负研制完全自主知识产权光刻机的使命。突破技术封锁与垄断。为国家节省上亿的资金，为老百姓能用上更实惠的芯片和电子产品而努力。光刻机不是神话，光刻机依旧是人类制造出来的，阿斯麦尔可以，中国也可以。

简介：摘要：光刻胶是光刻工艺的核心，是PCB印刷电路板、LCD液晶显示和半导体等各应用行业的上游材料，在电路板、液晶显示和半导体行业中有着广泛的应用；本文对高性能光刻胶用色浆的开发应用进行技术研究，通过盐研磨技术创新，实现技术工艺路线创新。

简介：

简介：为了探究原子光刻中基片与会聚激光场间距对沉积纳米光栅质量的影响,我们基于VirtualLabFusion（VLF）平台实现了基片定位控制方案中光学系统的建模和仿真.结果显示：基片在切割会聚激光时将产生直边衍射图像,其轮廓形状和最大值都会随着基片切割激光截面区域大小的变化而变化：虚拟光电探测器上所得到的反射光强度值将随着基片-会聚激光间距的变化给出了倒置的高斯线型,其最低点出现在基片中心和会聚激光场轴线重合时的位置上.当会聚激光场截面恰好被基片阻挡一半时,探测处的强度值降至45.5%.这种光强随基片位置的变化情况为精确地定位基片位置提供了理论支撑.

简介：

简介：采用自主设计研制的高精度双面自对准光刻模具和标准MEMS光刻工艺技术研制出整体式层板催化剂床板片，简要介绍了光刻工艺原理、工艺流程和工艺过程。光刻加工出的板片满足设计要求，板片经过电镀和真空扩散焊接工艺形成了整体式催化剂床，该床成功地通过了热点火试车。催化剂床床载为16．5g／（cm^2·s），分解效率为97％，室压粗糙度小于2％。

简介：【摘要】目的 探究麻醉喉镜灭菌过程中，应用激光刻印打码的价值。方法 研究样本共50例，均选取我院2022.06-2024.06期间发生的急救病例，分组方案方面，基于回顾性分析法，将2022.06-2023.04期间定为对照组（n=25，未开展激光刻印打码时期），2023.05-2024.06期间定为研究组（n=25，开展激光刻印打码时期），对比其应用效果。结果 急救中镜柄与镜片匹配度方面，研究组高于对照组，P＜0.05。结论 麻醉喉镜灭菌过程中，应用激光刻印打码的价值较为理想，可以使首次镜柄与镜片匹配度获得提升，让急救流程得到保障。

简介：KIA-Tencor公司日前推出其领先业界的最新版计算光刻机PROLITH11。这种新型光刻机让用户首次得以评估当前的二次成像方案，并以较低的成本针对光刻在设计、材料与制程开发等方面挑战，尝试不同的解决方案。这种新型计算光刻机还支持单次成像和浸没技术。

简介：