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《北京同步辐射装置年报》
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纳米尺寸同步辐射X射线光刻技术研究
纳米尺寸同步辐射X射线光刻技术研究
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摘要
本文报道了作者在同步辐射X射线光刻研究中的一些新进展,其中,最细尺寸已达50纳米。
DOI
0dp69g7oj2/1407121
作者
叶甜春;吴沐新;等
机构地区
不详
出处
《北京同步辐射装置年报》
1997年1期
关键词
纳米尺寸
同步辐射
X射线光刻技术
半导体
掩模
纳米光刻
分类
[核科学技术][核技术及应用]
出版日期
1997年01月11日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
北京同步辐射装置年报
1997年1期
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相关关键词
纳米尺寸
同步辐射
X射线光刻技术
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纳米光刻
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