纳米尺寸同步辐射X射线光刻技术研究

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摘要 本文报道了作者在同步辐射X射线光刻研究中的一些新进展,其中,最细尺寸已达50纳米。
机构地区 不详
出版日期 1997年01月11日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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