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连续扫描光刻技术

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摘要扫描光刻技术是目前实现大口径压缩光栅等位相元件制作的一种有效方案，该技术考虑到大尺寸加工的困难，采用先小尺寸加工，然后连续扫描扩大加工区域的方法，既能保证大尺寸加工和较高精度，又能降低设备制作成本和难度，具有明显的优越性。扫描光刻技术中需要发展超精密检测和超精密定位装置以保证移动光刻过程能够得到精密的控制，特别是10^-6级的相对精度的控制。图1显示了XY超精密平台的测量定位系统。

DOI odwl210g4k/586680

作者杨春林;周礼书;温圣林

机构地区不详

出处《中国工程物理研究院科技年报》 2006年1期

关键词光刻技术连续扫描加工区域制作成本定位装置精密检测

分类 [理学][物理]

出版日期 2006年01月11日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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中国工程物理研究院科技年报

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