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LIGA技术X光深层光刻工艺研究

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摘要通过在北京高能所3W1束线上进行的X光深层光刻工艺研究，获得了侧壁光滑、陡直、厚度达100μm，深宽楷比达20的光刻胶和金属微结构，表明该光束线适用于LIGA技术的研究。

DOI pd5elvzld7/1434247

作者陈迪;伊福廷;等

机构地区不详

出处《同步辐射装置用户科技论文集》 2000年1期

关键词 LIGA技术 X光深层光刻工艺曝光条件微加工技术微型机电系统

分类 [核科学技术][核技术及应用]

出版日期 2000年01月11日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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