简介:TN305.72002032298光学邻近校正改善亚微米光刻图形质量=Opticalproximitycorrectionforimprovingpatternqualityinsubmicronphotolithography[刊,中]/石瑞英(四川大学物理系.四川,成都(610064)),郭永康(中科院微电子中心.北京(100010))//半导体技术.-2001,26(3).-20-26论述了近年来光学邻近校正技术的进展,讨论了各种行之有效的改善光刻图形质量的校正方法,并分析了邻近效应校正在未来光刻技术中的地位和作用。图8表1参14(李瑞琴)TN305.72002032299光刻技术在微细加工中的应用=Applicationoflithographytechnologytomicroelectronicmanufacturing[刊,中]/刘建海(上海先进半导体制造有限
简介:摘要:随着科技的发展,我国机械制造业得到了非常迅速的发展。在制造业中,由于设备外壳的主要结构一般是由钣金制成的薄壁外壳构成,对钣金加工技术进行研究对制造业的发展具有重要意义。本文的研究主要介绍了钣金件加工的加工过程,并对相关工作内容展开阐述。