简介：WehavestudiedtheinterfacialstructuresofAlN/Si(111)grownbymetal-organicchemicalvapourdeposition.X-rayphotoelectronspectroscopyandAngerelectronspectroscopywereusedtoanalysethecomponentsandchemicalstructuresofAlN/Si(111).Theresultsindicatedthatamix-crystaltransitionregion,approximately12nm,waspresentbetweentheAlNfilmandtheSisubstrateanditwascomposedofAlNandSi3N4.AfteranalysiswefoundthattheexistenceofSi3N4couldnotbeavoidedintheAlN/Si(111)interfacebecauseofstrongdiffusionat1070℃.EveninAlNlayerSi-Nbonds,Si-Sibondscanbefound.

简介：采用金属有机化学气相沉积法在Si（111）衬底上生长了AlN外延层。高分辨透射电子显微镜显示在AlN／Si界面处存在非晶层，俄歇电子能谱测试表明Si有很强的扩散，拉曼光谱测试表明存在Si-N键，另外光电子能谱分析表明非晶层中存在Si3N4。研究认为MOCVD高温生长造成Si的大量扩散是非晶层存在的主要原因，同时非晶Si3N4层也将促使AlN层呈岛状生长。

简介：采用化学气相沉积（CVD）法，在常压无催化剂的条件下生长出了一维AlN纳米结构，通过调节生长温度控制生长形貌，利用气固原理和Ehrlich—Schwoebel势垒模型着重分析其生长机理，当温度较高时，原子扩散长度变大，并得到较高能量，使其能从上一层跃迁到下一层，且纳米棒底部直径变大，直径变粗。

简介：

简介：TostudytheadsorptionbehaviorofCu+inaqueoussolutiononsemiconductorsurface,theinteractionsofCu+andhydratedCu+cationswiththecleanSi(111)surfacewereinvestigatedviahybriddensityfunctionaltheory(B3LYP)andMller-Plessetsecond-orderperturbation(MP2)method.ThecleanSi(111)surfacewasdescribedwithclustermodels(Si14H17,Si16H20andSi22H21)andafour-siliconlayerslabunderperiodicboundaryconditions.CalculationresultsindicatethatthebondingnatureofadsorptionofCu+onSisurfacecanbeviewedaspartialcova-lentaswellasionicbonding.ThebindingenergiesbetweenhydratedCu+cationsandSi(111)surfacearelarge,suggestingastronginteractionbetweenthem.ThecoordinationnumberofCu+(H2O)nonSi(111)surfacewasfoundtobe4.Asthenumberofwatermoleculesislargerthan5,watermoleculesformahydrogenbondnetwork.Inaqueoussolution,Cu+cationswillsafelyattachtothecleanSi(111)surface.

简介：Intrinsiccarrierconcentration（ni）isoneofthemostimportantphysicalparametersforunderstandingthephysicsofstrainedSiandSi1-xGexmaterialsaswellasforevaluatingtheelectricalpropertiesofSi-basedstraineddevices.Uptonow,thereportonquantitativeresultsofintrinsiccarrierconcentrationinstrainedSiandSi1-xGexmaterialshasbeenstilllacking.Inthispaper,byanalyzingthebandstructureofstrainedSiandSi1-xGexmaterials,boththeeffectivedensitiesofthestatenearthetopofvalencebandandthebottomofconductionband（NcandNv）at218,330and393KandtheintrinsiccarrierconcentrationrelatedtoGefraction（x）at300KweresystematicallystudiedwithintheframeworkofKPtheoryandsemiconductorphysics.ItisfoundthattheintrinsiccarrierconcentrationinstrainedSi（001）andSi1-xGex（001）and（101）materialsat300KincreasessignificantlywithincreasingGefraction（x）,whichprovidesvaluablereferencestounderstandtheSibasedstraineddevicephysicsanddesign.

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简介：WepresentthetemperaturedependentelectricaltransportmeasurementsofAg/Si（111）-（√3×√3）R30°bytheinsitumicro-four-pointprobemethodintegratedwithscanningtunnelingmicroscopy.Thesurfacestructurecharacterizationsshowhexagonalpatternsatroomtemperature,whichsupportstheinequivalenttriangle（IET）model.Ametal-insulatortransitionoccursat-115K.Thelowtemperaturetransportmeasurementsclearlyrevealthestronglocalizationcharacteristicsoftheinsulatingphase.

简介：<正>Berkeley实验室的研究人员在Si衬底上采用氮化铪(H_fN)中间层生长出优良结构和光学质量的GaN膜。这些研究人员还建立了在Si上淀积H_fN和在H_fN上淀积GaN的工艺参数。用Si衬底而不用蓝宝石衬底来生长GaN提供了很大的成本优势,并提供了GaN基器件与常规Si电子器件单片集成的可能性。

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简介：利用MOCVD技术，分别在图形化蓝宝石衬底（PSS）、沉积有AlN薄膜的图形化蓝宝石衬底（PSS-A）和经过选择性刻蚀掉部分AlN的AlN薄膜的图形化蓝宝石衬底（PSS-E）上外延生长GaN。在高倍金相显微镜下面观察了生长的表面形貌，利用AFM测量了外延片表面的粗糙度，对比分析了三种样品（002）面和（102）面XRD的FWHM，然后对三个样品切片，SEM观察了三种样品的剖面图，最终将三种样品衬底的外延片制备成相同产品，对比分析了样品的LED芯片的光电参数。

简介：用X射线摇摆曲线和掠入射衍射、透射电镜、原子力显微镜等实验技术研究了MBE方法生长的Si缓冲层生长温度对SiGe／Si异质结结构的影响。结果表明，所研究的SiGe外延层晶格发生完全弛豫，但表面粗糙度和界面失配位错随Si缓冲层的生长温度而变化，最佳生长温度为450℃；缓冲层晶格应变是达到高质量SiGe外延层的主要原因。

简介：AmassofGaNnanowireshasbeensuccessfullysynthesizedonSi(111)substratesbymagnetronsputteringthroughammoniatingGa2O3/Cofilmsat950C.X-raydiffraction,scanningelectronmicroscopy,highresolutiontransmissionelectronmicroscopeandFouriertransformedinfraredspectraareusedtocharacterizethesamples.Theresultsdemonstratethatthenanowiresareofsingle-crystalGaNwithahexagonalwurtzitestructureandpossessrelativelysmoothsurfaces.ThegrowthmechanismofGaNnanowiresisalsodiscussed.更多还原

简介：MCM技术推动了现代微电子技术迅猛发展，已广泛应用于各种通讯系统的收发组件之中。AIN基板作为MCM技术多层基板主流之一，由于其高热导率、与硅片匹配的热膨胀系数、高介电常数、兼容各种芯片组装工艺的优点，在各个领域均获得了广泛的应用。文章结合一个微波组件AIN基板的研制，阐述了在AIN基板研制过程中解决的工艺难点，如粉料配制、流延、层压、烧结等，对研制的AIN基板进行了物理性能与电性能测试，结果表明AIN基板完全可以满足大功率毫米波／微波组件的实用化要求。

简介：世界上没有腐败分子的庇护所。在逃的中国储备粮管理总公司贪腐官员乔建军的前妻赵世兰，前不久在美国被捕。中美之间没有引渡条约，但双方正在讨论将他们从美国遣送回中国的其他办法。中国外交部对此事回应说。

简介：利用同步辐射掠入射和常规X射线衍射，对Si(001）衬底上自组织生长Ge量子点组分和应变进行了研究。结果表明量子点为50％应变驰豫的GeSi合金量子点，其Ge组分为0．55。此外在掠入射X射线衍射Si(220）峰的高角旁观察到另外一个峰，对应于量子点周围衬底中由成岛引起的压应变。

简介：低温下用MBE方法生长了Ge／Si超晶格。X射线近边吸收限精细结构研究表明，Ge与Si再Ge／Si界面处存在化学混合。X射线反射及横向散射研究表明，Ge亚层上下表面的粗糙度呈反对称，下表面大的粗糙度来源于Ge向Si亚层中扩散形成SiGe混合组分结构：这种组分结构可以用一平均成份的SiGe合金层加以拟合，从而使得各亚层均有一个合理的粗糙度。旋转样品进行的X射线散射研究表明，这种SiGe的混合是各向同性的，这与透射电子显微镜的研究结构相一致。

简介：TheangledependenceofopticalphononmodesofanAlNbulksinglecrystalfromthem-plane（1100）andc-plane（0001）surfaces,respectively,isinvestigatedbypolarizedRamanspectroscopyinabackscatteringconfigurationatroomtemperature.CorrespondingRamanselectionrulesarederivedaccordingtomeasuredscatteringgeometriestoillustratetheangledependence.Theangle-dependentintensitiesofphononmodesarediscussedandcomparedtotheoreticalscatteringintensities,yieldingtheRamantensorelementsofA1（TO）,E22,E1（TO）,andA1（LO）phononmodesandtherelativephasedifferencebetweenthetwocomplexelementsofA1（TO）.Furthermore,theRamantensorofwurtziteAlNiscomparedwiththatofwurtziteZnOreportedinpreviouswork,revealingtheintrinsicdifferencesoflatticevibrationdynamicsbetweenAlNandZnO.

简介：2016年秋季的一天，某知名大学的一位年轻的教授恭恭敬敬地敲开了周有光老先生的家门。