简介：对近代物理实验中激光模谱分析实验激光模式图的具体表示形式及所表达的物理含义进行了分析及讨论。

简介：谐振腔是激光器的重要组成部分,它的作用不仅在于产生激光,更重要的还在于决定输出光束的质量。本文首先对非稳定腔的特性作简要的介绍,然后用几何光学方法讨论这类腔体的模的稳定性,说明了非稳定腔虽损耗大,但只要选择和设计好谐振腔的参数,使增益足够大,仍为理想的腔体。

简介：自跟踪馈源网络被广泛应用在测控、通信、雷达系统中，作为核心部件，随着系统需求的日益增长，对自跟踪馈源的性能要求越来越高。在自跟踪馈源网络中，跟踪精度高、结构紧凑并具有良好定向性和耦合特性的TE2l模耦合器是最常见的设计选择之一。

简介：导膜共振是在光栅应用中容易遇到的一种反常现象，产生导膜共振的条件是入射波能激发起某种沿光栅表面传播的表面波，介质膜压缩光栅的结构具有产生导膜共振的条件。

简介：本工作主要包括KDP晶体单点金刚石车削加工和是非球面透镜数控抛光技术。

简介：为提高太赫兹脉冲的功率测量精度,基于n型硅在强电场下的热电子效应,研制了一种采用过模结构的0.14THz脉冲功率探测器.该探测器由基模波导WR6、过渡波导、过模波导WR10、n型硅探测芯片和偏置恒流源组成.首先介绍了探测器的结构及工作原理,给出了相对灵敏度表达式,分析表明过模探测器能在TE1o模式下很好地工作.然后结合国内工艺水平,根据模拟计算结果设计了探测芯片的结构参数,完成了探测芯片的加工和探测器的制作.最后,利用该探测器对0.14THz相对论表面波振荡器的辐射场进行了验证性测量,并与二极管检波器的测量结果进行了对比分析.结果表明,过模探测器的响应时间在ps量级,相对灵敏度约为0.12kW-1,最大承受功率至少为数十瓦,可用于0.14THz高功率脉冲的直接探测.

简介：论述了离子束曝光技术的原理、特点,分析了其面临的关键技术问题,如掩模技术、离子源技术、图像对准技术等,并介绍了这些年来国外的一些研究机构及公司在离子束曝光技术上的研究进展及

简介：TN305.72002032298光学邻近校正改善亚微米光刻图形质量=Opticalproximitycorrectionforimprovingpatternqualityinsubmicronphotolithography[刊,中]/石瑞英(四川大学物理系.四川,成都(610064)),郭永康(中科院微电子中心.北京(100010))//半导体技术.-2001,26(3).-20-26论述了近年来光学邻近校正技术的进展,讨论了各种行之有效的改善光刻图形质量的校正方法,并分析了邻近效应校正在未来光刻技术中的地位和作用。图8表1参14(李瑞琴)TN305.72002032299光刻技术在微细加工中的应用=Applicationoflithographytechnologytomicroelectronicmanufacturing[刊,中]/刘建海(上海先进半导体制造有限

简介：利用传输矩阵法理论，研究介质光学厚度对一维光子晶体（AB）5（ACB）2（AB）5缺陷模的影响，结果表明：随着介质A、B或C的光学厚度按奇数倍、偶数倍增大时，光子晶体主禁带中的缺陷模均向禁带中心移动，出现缺陷模向禁带中心简并的趋势，且光学厚度按奇数倍增加时简并的趋势更明显，同时缺陷模移动速度以A介质光学厚度奇数倍增大时为最快；当介质A、B或C的光学厚度按奇或偶倍数增大到一定数值时，均出现对称分布于禁带中心两侧的新缺陷模，而且光学厚度按偶数倍增大时出现的新缺陷模要比偶数倍增大时的快。介质光学厚度对光子晶体缺陷模的影响规律，对光子晶体设计窄带多通道光学滤波器件、高灵敏度光学开关等具有积极的参考意义。

简介：TN305．72005032365硅基微结构制作及其在微分析芯片上的应用=Fabricationofsilicon-basedmicrostructuresandtheirapplicationinmi-crochipsE刊,中]／孙洋(清华大学深圳研究生院．广东,深圳(518057)),钱可元…∥半导体光电．-2004,25(6)．-477-479,483基于一种新的湿法刻蚀条件和新型的凸角补偿结构,以KOH溶液为腐蚀液,对单晶(100)Si材料进行了湿法刻

简介：生产中遇到许多易变形弹性薄片零件，如常见的垫圈、摩擦片、特别的碟性弹簧，薄板、飞片等，它们刚性差、散热困难、装夹时易引起装夹变形，加工时会出现翘曲，严重影响零件的加工精度。对这类零件的精密加工技术进行研究，对减少工件的热处理变形及装夹变形，减少变形工作对零件最终形成精度的影响，从而保证弹性薄片类零件的加工精度具有至关重要的意义。提高零件精加工前的精度以及减少零件装夹变形和减小切削力是提高零件加工精度的重要措施。对于力学性能要求较高的工件，一般都需要进行热处理，以提高工件的综合力学性能。

简介：P715.522004032121一个新型的水下微光高速电视记录系统=Anewlowlight-levelunderwaterhigh-speedtelevisionsystem[刊,中]/王忠厚(中科院西安光机所.陕西,西安(710068)),李自田…∥光子学报.—2003,32(8).—1007-1009

简介：TN2132005042956恒定辐照下一维HgCdTe环孔PN结光生载流子浓度的计算=Calculationofphotocarrierconcentrationofa1-DloopholeHgCdTePNjunctionundersteady-stateincidence[刊,中]／王忆锋(昆明物理研究所,云南,昆明(650223)),蔡毅／／红外技术,-2004,26(6),-41-44,47通过求解一维HgCdTe环孔PN结连续性方程,得到了恒定辐照下光生载流子浓度的一般表达式,并对结果进行了分析讨论。图1参9(严寒)

简介：跟踪系统采用光电经纬仪工作模式，采用Kalman预测滤波技术对计算机接受到的传感器数据（包括电机编码器反馈信号、电视脱靶量信号）进行滤波预测，提供准确的位置、速度信息，进行有效预测外推，可以有效提高跟踪系统对机动目标的跟踪性能，实现对目标的稳定跟踪。

简介：TH811.297010521红外测温技术=Theinfraredmeasuringtechnologyfortemperature[刊,中]/姜世昌(上海工业自动化仪表所.上海(200233))∥自动化与仪表.—1996.17(4).—1—4

简介：根据正交试验设计法的原理,利用坦克红外辐射特性的理论模型和软件,对影响坦克红外辐射特性的多个参数进行了计算机模拟实验分析。总结了影响坦克红外辐射特性的主要因素,并对其进行了分析计算.这对理论模型的校验和模型的

简介：TB853.196031855镜头快门及其技术发展=Thelensshutteranditstechnicaldevelopment[刊,中]/范建伟(国营华东光学仪器厂.浙江,嘉兴(314001))//光学仪器.-1995,17(4/5).-75根据不同时期镜头快门曝光控制方式,动力源的

简介：TB8598063903利用胶片反射光的直接测光系统及其分析计算=Lightdirectmeasuringsystemusingfilmreflectedenergyanditsanalysis[刊,中]/冯华君(浙江大学光学仪器国家重点实验室.浙江,杭州(310027))//光学仪器.—1997,19(6).—24—30

简介：TB853.212002010510闪光X射线照相系统调制传递函数测量=ModulationtransferfunctionmeasurementofflashX-rayra-diographicsystems[刊,中]/周俸才,管永红(中国工程物理研究院流体物理研究所.四川,绵阳(621900))∥光

简介：扫描光刻技术是目前实现大口径压缩光栅等位相元件制作的一种有效方案，该技术考虑到大尺寸加工的困难，采用先小尺寸加工，然后连续扫描扩大加工区域的方法，既能保证大尺寸加工和较高精度，又能降低设备制作成本和难度，具有明显的优越性。扫描光刻技术中需要发展超精密检测和超精密定位装置以保证移动光刻过程能够得到精密的控制，特别是10^-6级的相对精度的控制。图1显示了XY超精密平台的测量定位系统。