简介：瑞典ABB集团服务中心的简·伊斯伯格及其同事成功制备出一种人造金刚石膜，其电学性能和半导体性能不亚于现在常用的半导体硅。

简介：据英国Nature，2004，428：542报道．俄国科学家最近制备出一种掺硼金刚石，这种金刚石因具有特殊的超导特性而引起了科学家的极大兴趣。

简介：日本利用新的环保技术从废旧电池中提取再生物质，制出高纯度合金。中世纪的炼金术士曾经想方设法把粗金属炼成黄金，而今美国海军研究实验室的科学家更胜一筹，能将废气变成金刚石。从理论上讲，当有机固体经过高温和高压之后，通常可以形成闪闪发亮的结晶体。事实上，这种“宝物”现在的确可以用含碳的废气制造出来。

简介：据科学日报报道，想象一下你想要某个物体一模一样的复制品，再设想下你从口袋里拿出手机，利用手机里集成的3D成像器拍张照，然后发送给3D打印机，在数分钟内你就获得了一个精确的复制品，后者与原始物体的精确误差为微米范同。多亏了美国加州理工学院发明的一种新型、高分辨率的微型3D成像器，这一设想可能很快将变为现实。

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简介：本文对人造金刚石提纯物料作了用物理方法除去叶蜡石杂质的试验研究。结果表明，含有叶蜡石的人造金刚石物料经过选择性球磨破碎后，叶蜡石得到有效碎解，仅用机械物理方法就可有效除去粗中粒级金刚石中的叶蜡石，而金刚石的质量不会受到影响。

简介：目前，国内金刚石合成依其使用材料的形状不同分为两大类：一是片状；二是粉状。使用片状材料合成金刚石已有几十年的历史，而使用粉状材料合成金刚石(规模化工业生产)仅仅是近几年的事(国外几家大公司使用的早些)。粉状材料生产人造金刚石以其转化率高、晶体

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简介：静压法合成的单晶人造金刚石和人造金刚石微粉，就品种，技术条件，包装，杂质检验，抗压强度测定方法，粒度组成等有关问题，已经建立了国家标准。化学气相沉积法制取的金刚石膜因出现的时间短还未建立起有关标准。化学气相沉积金刚石膜的方法有热丝法，微波法和直流电弧等离子体喷射法三类，本文就直流电弧等离子体喷射化学气相沉积的自支撑人造金刚石膜标准的制定中应考虑到的一些问题提出了我们的看法。

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简介：半导体芯片的生产主要依靠化学机械抛光(CMP)工序使硅片表面平坦化，使复杂的集成电路能非常有效地工作。做为电路设计不可避免地趋向于采用高度集成和多层结构。故化学机械抛光技术必须紧跟其需要与发展。化学机械抛光垫性能的关键是采用金刚石化学机械抛光垫修整器工作时，抛光垫工作寿命期间，必须保持恒定的抛光效果。

简介：一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法，最低沉积温度为250℃，其特征在于选用波长在308nm的XeCl准分子激光作激光源，过程如下：将欲沉积衬底放在高导热率材料的工作台上，用XeCl准分子激光辐照衬底欲沉积金刚石膜区，并在预抽真空的反应室中通入能吸收该激光波长的碳氢化合物反应气(含汽化液体或固体)和氢气。

简介：本文介绍一种新研制成功的特别适合于人造金刚石电解渣碎解细化的搓揉机的机械构造、工作原理、性能特点及其在物理除杂提纯工艺中的使用效果。

简介：一种包括粘结剂的碳化物基质经制备以便在其上接受切削材料如金刚石层。这种基质浸入电解液中，基质用作阳极，从而形成电解抛光的基质表面。然后腐蚀电解抛光的基质表面以基本除去碳化物基质的粘结剂相，