简介：化学镀铜技术是印制电路中的重要部分,采用正交实验法研究了以次亚磷酸钠为还原剂添加亚鉄氰化钾的化学镀铜溶液,得到了的最佳参数和条件。镀液中添加亚铁氰化钾可以显著降低沉积速度,使镀层变得均匀致密,形貌得到改善,电阻率明显降低,镀层中镍的含量也有所降低。

简介：摘要；随着人类社会的发展，全球气候变暖及碳排放超标，全球碳中和大会对环保节能提出更高的要求，但是面对目前环境形式及节能玻璃板块来说，需要开发更好的节能产品。发达国家不仅在公共建筑上普遍采用高性能的low‑E玻璃，而且将性能最好的三银low‑E玻璃大量用于居住建筑上。为解决现有技术中的普通三银Low‑e玻璃膜层软，环境适应性差，不能进行后期的二次处理技术问题，现设计了一种三银镀膜玻璃，本文从多角度介绍了这种装置。

简介：摘要减反射镀膜光伏玻璃目前已完全替代普通光伏玻璃，成为光伏行业主流的电池组件盖板玻璃。在镀膜光伏玻璃生产过程中，镀膜质量控制是工序控制的重点，本文结合生产实际，对镀膜工序质量自检的重要性进行了探讨分析。

简介：摘要本文结合以往的实践经验，对镀膜玻璃进行了全方位的分析，进而对镀膜玻璃主要的生产加工工艺方法，进行了系统化的论述与研究。从而能够依据客户不同的需求，依据镀膜玻璃生产加工的基本原理，选择最佳的镀膜玻璃生产加工方法。从而能够在各种镀膜玻璃生产加工工艺支持之下，生产加工出高质量的玻璃产品。

简介：采用真空蒸镀与化学镀两种方法制备GaN基发光二极管（LED）金电极,分析比较了两种工艺所得芯片成本、外观色差、打线拉力。结果表明,化学镀金可选择性还原欲沉积的金属于电极上,较之蒸镀整面金属,可大幅度节省金属成本,且操作简单易行。化学镀金法所制得金属层,较蒸镀法所制得金属层表面粗糙,可有效减少电极间的色差,且能提高打线或焊线的附着力。

简介：采用新型环保的均一化前处理工艺在AZ91D镁合金表面制备了化学镀Ni-P镀层。研究了前处理过程中AZ91D基体微观形貌、镀层沉积过程、成分和相结构。研究结果表明：基体表面的β相在前处理过程中被选择性去除,表面组织得到均一化,从而获得均匀致密的浸Zn层。Ni-P颗粒均匀形核生长,并最终形成致密的镀层。镀层具有优良的耐腐蚀性能。

简介：文章从分析技术层面探讨和研究了分别用铋和锌两种标准溶液测定化学镀铜废液中EDTA的方法,解决了标准滴定液、测定溶液酸度、指示剂的选择及消除铜干扰的问题.试验表明该方法操作简单、快速灵敏、准确.

简介：卷绕真空镀膜技术直接对卷状物（如塑料薄膜卷材或金属箔卷材）进行真空镀膜加工，具有较高的生产效率。镀氧化铝或氧化硅的透明阻隔薄膜不但具有和镀铝膜一样的阻隔性能，还可透过可见光，具有高的微波穿透性，可直接用于微波炉加热和进行金属检测，大气环境适应性和环保性优良。

简介：摘要：半导体金属化工艺中，要求金属层光泽致密，无氧化，无损伤，接触好，粘附牢，膜厚可控，均匀性好等等，所以不管是电子束蒸发台还是磁控溅射台等等，都要求设备本身提供一个高真空的镀膜环境。

简介：摘要本文从三银镀膜特性、生产工艺流程、使用性能等方进行了介绍，新形势下的建筑节能需要从新型材料的角度出发，应用新材料的重要性不言而喻。

简介：牛顿环具有反射式和透射式干涉环,透射式干涉环对比度不高,实验效果差,文章对牛顿环装置进行了镀膜处理,研究了薄膜对透射式牛顿环的影响,结果表明,反射率为20%及40%的单侧薄膜均能很好地提高透射式牛顿环的对比度,且对比度随着单侧薄膜反射率的增加而提高,反射率为20%的双侧膜所获得的牛顿环对比度要优于反射率为40%的单侧膜.研究改善了透射式牛顿环实验的观察效果,提高了测量精度,为牛顿环实验装置提供了更好的观察环境.

简介：

简介：摘要：通过对 阴极溅射靶、镀膜室以及真空系统分子泵等的设计理念进行概述，并针对某一种多靶磁控溅射镀膜设备进行了分析和研究。 通过对该设备进行镀膜工艺的处理，以此来判定镀膜设备是否符合工艺要求 [1]。

简介：摘 要：调制盘等小尺寸非直边形状光学零件表面的图形光刻，由于难以切割成独立的单个零件，目前多采用单片镀膜和光刻的形式来进行表面图形的加工。为了提升生产效率，保证产品质量，针对各环节相关因素，进行大量试验，确定了最佳的工艺条件，改进了工艺方法。

简介：摘要:本文首先阐述了光学镀膜的分类，接着以蒸发镀膜为例详细分析了其生产工艺，最后对光学镀膜的膜层性能进行了深入研究，以期能够推动光学镀膜行业的健康可持续发展。

简介：摘要：近期多个组件厂反馈接到客户色差反馈、投诉。具体情况表现为组件条状色差，组件两侧与中间区域颜色差异及不同组件间的色差，色差在室内不易发现，在室外容易发现色差，客户对组件色差异常反应较强烈，已出现组件退换货及补偿事件。影响组件色差的主要因素有电池片及镀膜玻璃，本文只探讨镀膜玻璃对组件色差的影响。

简介：摘要：我们常见的镀膜方法有物理气相沉积镀膜（简称PVD）和化学气相沉积镀膜（简称VCD）。物理气相沉积镀膜主要分为三类：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜。本文介绍的镂空镀膜涉及的镀膜方法是真空溅射镀膜。真空溅射镀膜技术是目前大批量镀膜玻璃生产中最主要的技术之一，它具有膜层厚度均匀、基片温度低、沉积速度快等一系列优点。镂空镀膜与传统追求的膜层均匀完整有所区别，简而言之，镂空镀膜就是采用不同的方法使完整的膜层表现出镂空图案效果。

简介：采用化学镀的方法在钕铁硼永磁体表面镀镍钨磷三元合金镀层,再利用正置金相显微镜（OM）、线性极化曲线法与电化学阻抗技术研究不同钨含量的镀液、永磁体表面粗糙度和施镀时间对镍钨磷三元合金镀层形貌和耐蚀性的影响.实验结果表明：镀液中钨酸钠含量为20g/L时结合力是最佳,永磁体表面打磨到1000#,施镀时间90min时,镀镍钨磷钕铁硼在3.5%NaCl溶液中耐蚀性最好.

简介：

简介：微观土样的SEM照片发现,采用风干方法制作的土样可保持土样的原状结构.在此基础上,使用撕皮技术和镀膜方法可获得满意的制样效果.前者使土样表面清晰、干净,后者则可以消除非金属材料的放电现象.镀膜以镀金的效果最好.