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高真空蒸发镀膜设备及检漏

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摘要摘要：半导体金属化工艺中，要求金属层光泽致密，无氧化，无损伤，接触好，粘附牢，膜厚可控，均匀性好等等，所以不管是电子束蒸发台还是磁控溅射台等等，都要求设备本身提供一个高真空的镀膜环境。

DOI 34g7m9ro49/5327679

作者王宜琪

机构地区尼西半导体科技（上海）有限公司201614

出处《科学与技术》 2021年8期

关键词真空镀膜真空蒸发半导体检漏。

分类 [建筑科学][建筑技术科学]

出版日期 2021年07月08日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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科学与技术

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真空镀膜真空蒸发半导体检漏。

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