简介：摘要刻蚀工艺是将未被抗蚀剂膜（通常为光刻胶）掩蔽的膜层刻蚀掉，从而在薄膜上得到与抗蚀剂膜完全相同图案的工艺。刻蚀工艺通过化学的、物理的或同时使用化学和物理的方法，有选择地刻蚀掉一定厚度的未被抗蚀剂掩蔽的目标薄膜，从而在目标膜层上得到与抗蚀剂膜层上完全一致的图形。本次实验依照控制变量法的原理，通过改变某一工艺参数，保持其余参数不变，来设置使用干法刻蚀工艺加工二氧化硅的对比实验，并根据实验测试结果分析此工艺参数对刻蚀速率、选择比以及刻蚀形貌等的影响。
简介：摘要研究了光刻机曝光过程中，热效应引起焦平面发生漂移的原因，并对热效应过程进行分析，通过光照时间与冷却时间的关系对应焦平面漂移关系，及时进行焦平面补偿，以及对成像系统进行温度控制，可对焦平面漂移进行有效控制
简介：介绍数字光处理(Digitallightprocessing,DLP)技术在3D打印中的应用,分析影响该技术打印精度的几个主要因素,研究阵列式数字光刻技术的方法,用于提升打印分辨率,并实现其控制系统,讨论该技术在应用中需要注意的主要问题,通过实验数据分析比较使用该技术后精度的提升情况,总结该技术方法在应用上的优势与不足。
微电子制造中刻蚀工艺研究与应用
光照对光刻机焦平面漂移影响的研究
阵列式数字光刻3D打印技术的设计与实现
