简介：人类已经清楚地认识到,自身在生产生活中排出的化学物质的数量远远超出了地球自身的净化能力,人类的生存环境被严重破坏,人类文明遇到了严峻的挑战。这就要求清洗行业的从业人员在选择清洗剂时,不仅要考虑清洗能力,还要考虑安全环保性,防止清洗剂损害操作人员的健康,尽量降低对环境的污染。

简介：本文介绍有关水基清洗剂的水洗设备,水基清洗剂的漂洗设备、漂洗工艺,水基清洗的分析和监测系统,以及药品浓度控制系统的改进措施.

简介：影响清洗工艺的因素主要有四个：化合物、温度、能量和时间。不同因素的结合可确定元件清洗的洁净度。本文对每种类型清洗工艺的基本因素进行了调查研究，其对于你确定哪一种工艺最适合于你的应用需求是很有帮助的。

简介：文章阐述了半水基清洗剂的组成特点、类型、优缺点等基本概念,并对它的清洗工艺特点及应用情况做了介绍.

简介：本文介绍了水基金属清洗剂的性能,组成及水基金属清洗剂的清洗机理和选用.

简介：本文就COG-STN等精细线路高档LCD液晶屏狭缝液晶、电极引脚及玻璃表面的清洗,从非ODS清洗剂、清洗工艺和清洗设备三个方面进行了研究,结果表明使用半水基非ODS清洗剂Fisher2000-1和UEA-8090八槽式水基超声波清洗机清洗能满足产品品质的要求.

简介：本文介绍了设计水基清洗设备时为提高零件清洁度应采取有效途径方面的经验.实践证明通过正确利用超声波清洗、机械摇动、高压定点喷淋、设置油水分离器、磁性分离器、过滤循环装置、风刀吹水装置等措施可使清洗洁净度得到明显提高

简介：位于美国马萨诸塞州波士顿的吉列公司是一个高产公司,每天都要生产数以百万计的刀片.但是现在吉列公司需要一种新的清洗技术清洗剃刀和刀刃,以替代传统的三氯乙烯(TCE)溶剂清洗法.吉列刀片为不锈钢制造,极其锋利.按照要求,合格的刀片表面应没有油垢、加工物的残渣、清洗剂的残余物,以便于下一道工序进行加工.

简介：本文论述了光学元件的清洗及清洗剂的研制机理.

简介：为电子和高科技制造业提供环保精密清洗产品的领导厂商Kyzen公司日前宣布，将在NEPCONChina2012展会IB01号展台推出最新的水基清洗产品——EXakleanE5321。

简介：本文主要介绍了水基清洗技术在彩管成型荫罩黑化前清洗中的应用.介绍了水基清洗技术的清洗原理、工艺特点,以及对水基清洗剂的一般要求及实际使用中的注意事项.

简介：2008年，合明科技全力投入公司人力、物力、财力，集中研发部精湛技术进行全系列水基清洗剂的开发，经过客户SMT在线清洗、离线清洗、SMT设备清洗等反复试样验证，清洗力非常好，至此，合明科技全系列水基清洗剂正式研发成功。同时，此发明也通过中国专利局申请，成为合明科技继无铅锡膏发明后的又一项发明专利，这对电子制造行业来说，无疑又是一大喜讯。