简介：我国超声清洗的研究和应用与国外几乎是同时进行的,到现在己经历半个世纪,在清洗设备生产和应用方面都得到很大发展.但是产品大多是低超声频(20～40KHz)的清洗设备,空化强度较高,适用于不易损坏而较大零部件的清洗.目前主要发展专用或在生产线上配套的工程设备,而针对用于精巧而且对污物很敏感的高技术产品的清洗设备还很少.这大概是由于我国计算机,半导体及其他高技术产品的制造业还不发达的原因.相信不久的将来,适合此类产品的超声清洗设备需求会不断增加.为此,下面介绍一些高频超声精细清洗的发展概况.

简介：超声清洗技术是已经得到广泛应用,并且正在不断发展中的清洗新技术.本文简要地介绍了超声清洗的作用原理、方法和技术,以及在实际应用中为达到较佳清洗效果所需要考虑的因素.

简介：本文综述了我国超声波清洗技术发展状况,介绍了超声波清洗特点和机理、超声波清洗技术参数的选择、超声波设备的组成以及超声波技术的最新进展.

简介：本文介绍了超声波清洗的工艺,并对超声波清洗技术的应用作了介绍,指出了超声波清洗技术的几点主要优势.

简介：超声波清洗的发展历史超声波技术起源于20世纪,在其发展过程中历经曲折,最终达到了今天的水平.

简介：前言近年来,随着人们环保意识的提高,在LCD制造工厂,降低清洗设备使用的药液、纯水、排气等的用量及降低废液、废水处理负荷已经成了最大的课题.

简介：在光学冷加工中,镜片的清洗主要是指镜片抛光后残余抛光液、黏结剂、保护性材料的清洗镜片磨边后磨边油、玻璃粉的清洗镜片镀膜前手指印、口水圈以及各种附着物的清洗.传统的清洗方法是利用擦拭材料(纱布、无尘纸)配合化学试剂(汽油、乙醇、丙酮、乙醚)采取浸泡、擦拭等手段进行手工清擦.

简介：本文介绍了超声波洗净设备在制造过程中需考虑的有关设计问题,以及在制造技术方面需考虑的多种因素,并提出了实用性的建议.

简介：本文阐述了用于测量低频超声清洗声场强度的几种实用方法,介绍了每种测量方法的基本原理,并对各自的优缺点进行了对比分析,最后介绍了国内外一些相关的测量设备.结合目前低频超声清洗声场测量方面的研究现状,探讨了今后该领域急需解决的问题.

简介：便携式超声波洗衣机由高弹性传导纤维制成,将它折叠后可以很容易地放进背包里,便于外出旅行时携带。这个产品的主要部件是超声波发生器、触摸显示屏、由高弹性传导纤维制成的软性洗涤腔、连接水源用的进水器和排污用的出水槽,还有充电器等备用附件。

简介：频率跟踪电路是超声波发生器中的一种特殊电路.本文在介绍频率跟踪的基本原理和应用情况的基础上,分析了实现频率跟踪的不同方案,并对于几种典型的频率跟踪电路作了详细的说明.

简介：在中国清洗行业整体淘汰ODS活动中,不可避免地遇到一些技术难题.2002年,笔者带着这些难题,两次赴日本进行技术考察和交流.在日本洗净协会和日本部分洗净设备制造企业和洗净剂制造企业的大力协助下,笔者看到了日本同行在淘汰ODS清洗剂技术改良过程中所做出的可喜成绩.

简介：本文首先简单地介绍超声波发生器的几个主要阶段,然后侧重对开关型超声波发生器作详细介绍,包括几种成熟的典型线路的设计及调试注意事项,最后将对现在国际上先进的几种控制方式作一些探讨.

简介：本文在简述超声波清洗原理、特点的基础上,从应用研究的角度,阐述了IGBT逆变式超声波清洗机/线十多年推广应用的典型案例,并举例说明了其经济效益.

简介：文章对超声波清洗机发生器的生产技术进行回顾分析,并对行业如何健康发展提出自己的建议.

简介：本文讨论了超声波发生器控制部分(PWM技术)的发展历程,对使用μP(MCU)作控制时带来的一些新功能进行了描述,并探讨了一些重要问题.

简介：氟利昂等ODS(指CFC-113,1,1,1-三氯乙烷,四氯化碳)物质正在被逐步淘汰,替代的主要有水基型、半水基型和溶剂型等三种非ODS清洗技术.由于受清洗剂的性能限制以及LCD高清洗要求,在清洗设备上,要求使用浸入式超声波来加强清洗时的物理、化学作用.对于LCD器件,为了防止超声波对LCD器件的结构产生破坏作用,应用超声波时,超声波的主要性能指标-功率和频率的选择显得非常重要.本文重点就LCD器件的非ODS液晶清洗与超声波频率的关系进行了讨论,并对清洗工艺中需要注意的其他因素进行了简单说明.

简介：本文在分析压电换能器的阻抗特性和工作点的基础上,讲述了超声波清洗机的阻抗匹配原理,并分别介绍了他激式和自激式发生器具体的匹配方法.这些对于超声波清洗机匹配电路的设计和调节都具有参考价值.

简介：九工位智能超声波清洗机的开发和应用是北京真空电子器件研究所对清洗工艺技术改造的一种尝试.本文介绍了该清洗机的策划、设备性能、结构特点、控制能力以及实际应用效果.

简介：本文按块块分割方式介绍具体的超声波电源电路构成,并讨论这些电路的特点和应注意的事项.