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原型装置真空系统光学元件的污染过程及控制

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摘要神光Ⅲ原型装置运行过程中空间滤波器和终端光学组件保持在10^-3Pa的真空条件下，其中使用的各种润滑脂和密封圈中的有机物饱和蒸气压浓度和自由程增大，造成膜层污染。光学元件表面膜层在污染后性能退化，对装置激光通量、能量效率、运行稳定性和可靠性均会产生严重影响。

DOI 7dm6yr0ojn/586730

作者赵松楠;吕海兵;蒋晓东;袁晓东;熊迁;王成程;黄进

机构地区不详

出处《中国工程物理研究院科技年报》 2006年1期

关键词神光Ⅲ原型装置污染过程光学元件真空系统控制空间滤波器

分类 [理学][物理]

出版日期 2006年01月11日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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