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高温退火过程中As压对SI—GaAs化学配比的影响

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摘要通过同步X光荧光（SXRF）成分分析，定性地研究了在0．5atm、0.6atm、0.7atmAs压下1150℃进行退火处理后衬底化学与比的变化。结果表明：控制As压可以改变化学配比，在足够As压下的高温退火将改善化学配比均匀性。

DOI rj8ez6y7j0/1407234

作者张峰翊;黄宇营

机构地区不详

出处《北京同步辐射装置年报》 1998年1期

关键词高温退火半绝缘GAAS As压化学配比 X光荧光分析砷化镓

分类 [核科学技术][核技术及应用]

出版日期 1998年01月11日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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