简介：本文对以LiBq4作为发光层,PVK:TPD作为空穴输运层,结构为:ITO/PVK:TPD/LiBq4/Alq3/Al的蓝色有机电致发光器件,在相同工艺条件下引入和不引入CuPc缓冲层,进行了实验研究.结果表明:由于CuPc缓冲层的引入,使蓝色OLED的电流随电压的增大较未加CuPc的OLED相对缓慢;且启亮电压上升,发光亮度和效率下降.这主要是因为CuPc加入后,空穴注入势垒降低,使PVK:TPD/LiBq4界面空穴积累数量增大,产生的反向漂移电场阻碍了空穴多数载流子的注入;并进而致使发光层注入空穴数量减小,内建电场加强,激子形成几率变小,解离几率增大.

简介：实验中制备了不同厚度的缓冲层PBD修饰的有机电致发光器件以及没有缓冲层修饰的有机器件.通过比较发现缓冲层PBD的最优厚度为0.2nm,缓冲层PBD对于器件亮度有显著的影响.当缓冲层PBD厚度为0.2nm,相同电压下器件的亮度要比无缓冲层器件的亮度要高.当电压为16V时,PBD修饰的器件的亮度为1984cd/A,而没有缓冲层材料修饰的器件的亮度为1110cd/A,器件的亮度得到了提高.在电流密度为120mA/cm2的情况下,PBD修饰的器件的效率为3cd/A,要比没有缓冲层材料修饰的器件的效率(为2.6cd/A)高.最主要的原因是由于PBD是电子传输层,因此它对于空穴的注入起阻挡作用.所以缓冲层PBD阻挡和减少了空穴的注入,提高了电子和空穴形成激子的比例,从而提高了器件的效率.

简介：<正>中科大日前发布消息,该校熊宇杰教授课题组通过与江俊教授、张群副教授在材料设计与合成、理论模拟和先进表征中的"三位一体化"合作,在光催化复合材料设计方面取得系列新进展,成果发表在国际著名期刊《先进材料》上。每种特定的材料一般都具有某方面独特的性能及优势,材料的复合是突破单一材料性能瓶颈的有效途径。具体到光催化体系,复合材料中不同组成单元可以扮演产生及分离电荷、吸附活化分子等各种重要角色。然而,事实上复合

简介：体系对抗环境下，需要考虑电磁干扰对C4ISR系统应用层的影响。提出了从系统效能层和作战效能层评估防空CtISR系统抗干扰能力的方法。建立了系统抗干扰评估指标体系，介绍了评估指标的定量计算模型及其规范化处理方法。结合层次分析法，给出了系统在应用层抗干扰能力的综合评估模型。通过应用案例，阐明该评估模型的应用方法。实践证明，该评估模型对改进系统设计、提高系统效能具有一定价值。

简介：先进节点逻辑集成电路制造是当前工业界的领先工艺。为实现接触（Contact）层的光刻工艺,需要从两个关键方面进行处理：解析度和全间距的共有工艺窗口。离轴照明＋相移掩模＋亚解析度辅助图形多种解析度增强技术的组合使用是解决光刻成像的方法。从优化接触层离轴照明的类型方面解决光刻制造工艺的问题。

简介：据业内消息称，紫光集团旗下的长江存储技术公司（YMTC）正在规划开发自己的DRAM内存制造技术，而且可能直奔当今世界最先进的20／18nm工艺。长江存储技术公司是紫光集团收购武汉新芯部分股权后更名而来的，并邀请了台湾地区华亚科技董事长高启全（CharlesKau）加盟，出任全球执行副总裁。

简介：2004年清洗技术国际论坛暨清洗技术装备展览会的国际招展工作进行得风风火火.为使广大读者朋友能够详细了解本次展会的招展进程,记者特意采访了中国洗净工程技术合作协会国际合作部部长王荣年(以下简称"王")及助理刘赞(以下简称"刘").