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  • 简介:用X射线反射方法研究了分子束外延技术生长的Si中Ge薄层异质结构的Ge原子分布特性.根据X射线反射理论及Parratt数值计算方法对实验反射曲线的模拟,得到不同厚度的Ge薄层异质结构样品中Ge原子的深度分布为非对称指数形式:在靠近样品表面一侧的衰减长度为8埃,而在靠近样品衬底一侧的衰减长度为3埃,且分布形式与Ge原子层的厚度无关。讨论了不同结构参数(Ge原子薄层的深度、Ce原子分布范围、样品表面粗糙度、样品表面氧化层厚度等)对样品低角反射曲线的影响.

  • 标签: 同步辐射X射线反射法 薄层异质结构 Ge 半导体材料 表面偏析
  • 简介:为使大口径天线能够正常辐射几十纳秒甚至几纳秒的微波脉冲,通过数值计算,获得了大口径天线主轴方向不同距离及偏离主轴不同角度处,辐射场波形脉冲宽度及电场强度幅值随微波激励脉冲宽度的变化关系;同时,还获得了不同口径尺寸天线辐射场波形脉冲宽度及电场强度幅值随偏离主轴不同角度的变化关系。结果表明:在口径天线远场条件下,天线主轴方向的辐射场波形无畸变;偏离主轴,辐射场波形会出现不同程度的脉冲展宽及幅值减小等波形畸变现象,偏离主轴角度越大,激励脉冲宽度越小,畸变越严重;在10dB波束宽度范围内,不同尺寸口径天线的辐射场波形不变。

  • 标签: 大口径天线 微波短脉冲 微波激励脉冲宽度 辐射场波形
  • 简介:对市售和加固CMOS电路在四川原子核应用技术研究所的5.92×10^15Bq^60Coγ源上作了总剂量辐射特性的对比试验,其中市售的样品包括了北京半导体器件三厂的硅栅和铝栅CMOS电路及美国RCA公司的CMOS产品硅栅CD74HC20E,加固CMOS电路为中科院北京半导体研究所的CMOS/SOS(以蓝宝石为衬底)硅栅CC4012和CMOS/体硅金属栅CC4012。实验的γ剂量率在0.02-0.80Gy(Si)/s之间,它符合国家军用标准GJB762.2《半导体器件辐射加固试验方法总γ剂量辐照试验》所规定的实验剂量率范围。当辐照到预定的总剂量时,电路所有表征参数在20min内测量结束。

  • 标签: CMOS电路 辐射剂量 对比试验 硅金属栅 Γ剂量率
  • 简介:为提升自行开发的粒子输运蒙特卡罗模拟软件PHEN对电子输运模拟的处理能力,根据厚靶轫致辐射(thick—targetbremsstrahlung,TTB)模型,在PHEN中加入了自编的TTB模块,分析了加入TTB模块后PHEN的模拟计算速度、TTB模块生成的轫致辐射光子能量及TTB模块模拟电子输运的适用范围。通过与MCNP中轫致辐射截面及电子射程的对比,验证了TTB模块模拟电子输运的正确性。计算了加入TTB模块前后正电子湮没峰计数的变化,用于判断使用TTB模块模拟的合理性。计算结果表明:当材料尺寸小于电子在材料中的射程时,TTB模型不考虑电子输运的计算结果是不合理的,应采用压缩历史算法处理电子输运;当材料尺寸大于电子在材料中的射程时,TTB模型计算速度快,计算结果与压缩历史算法的计算结果吻合较好,可用厚靶轫致辐射处理电子输运。

  • 标签: 厚靶轫致辐射 蒙特卡罗 粒子输运 正电子湮没峰
  • 简介:依据量子信息学和量子计算基本理论,在研究低剂量I射线与神经细胞的相互作用规律及物理机理时,将神经细胞骨架微管中的两种蛋白构型视为两能级原子体系,使用密度矩阵描述脑神经系统中信息位的状态,建立并求解系统的动力学方程。结果表明:随密度矩阵非对角元素的减小,系统的量子相干性迅速降低。因此,低剂量I辐射可以影响受照者的脑神经功能。

  • 标签: BI辐射 神经细胞 物理机理 两能级原子
  • 简介:采用理论模拟和IVA(inductivevoltageadder)产生的脉冲X射线,研究了PIN探测器输出电荷随脉冲辐射强度的变化关系.结果表明,当入射脉冲辐射注量是PIN探测器最大线性电流对应注量的16.2倍时,PIN探测器输出电荷仍然与脉冲辐射强度呈线性变化,偏离线性小于5%.

  • 标签: PIN探测器 线性电荷 脉冲辐射测量
  • 简介:本文针对核辐射探测实验中所获取的实验数据量大、处理复杂的问题,提出了用实验教学软件通过计算机判断所获取的核辐射探测实验数据,为学生做实验时所获取的实验数据的正确与否做出直观、方便、快速的判断,从而提高实验教学质量.

  • 标签: 实验教学软件 核辐射探测 PB8.0 开发 实验数据 计算机判断
  • 简介:红外吸收光谱表明样品含片状和分散状分布的杂质氮,属1a型金刚石。利用同步辐射对晶体进行了形貌学研究.在近完整晶体内近中心的001)和(010)结晶学平面内观察到生长带,生长方向平行于(100)和(010).在欠完整晶体内小角度晶界发育,取向角达2.5^*以上.晶体完整性与氮含量无明显相关关系.

  • 标签: Ia型天然金刚石晶体 结构缺陷 同步辐射 组织形貌 红外吸收光谱 晶体结构
  • 简介:设计了一种基于微控制器的RadFET辐射剂量测试系统,介绍了系统的测试原理和方法,通过测量阈值电压的偏移值可得到吸收剂量。利用60Coγ辐照测试系统进行了试验验证。试验结果表明:该测试系统能够实现宽范围辐射剂量测量,同时该系统也可用于其他MOSFET器件阈值电压的测量,尤其适用于辐射剂量的长期测量或者实时测量。

  • 标签: 电离总剂量效应 辐射剂量计 RADFET 辐射剂量测量 微控制器
  • 简介:介绍了国内外极低辐射本底实验现状,总结了对材料放射性筛选的要求和实现手段,给出了相关实验中探测器、屏蔽体、电子学部件等材料的放射性水平。可以看出,筛选材料放射性的手段,主要有低本底γ谱仪分析、辉光放电质谱分析及电感耦合等离子体质谱分析;对大部分材料的放射性比活度要求在mBq·kg^-1量级;对探测器材料和内部屏蔽体材料铜的放射性要求更高,放射性比活度需达到0.1-1μBq·kg^-1。

  • 标签: 极低辐射本底实验 放射性筛选 Γ谱仪 质谱仪
  • 简介:本文基于子弹飞行过程中的红外辐射特性和热成像模型,结合大气对红外辐射吸收和散射衰减,在不同距离处将子弹热成像模型视为扩展源目标和点源目标,利用最小可探测温差(MDTD)、最小可分辨温差(MRTD)和噪声等效功率(NEP)分别给出了相应红外视距模型的估算方法。根据红外热像仪常用参数以3种蒙皮温度给出了3种不同模型下子弹辐射作用距离的计算实例及结果:MDTD模型下得到的作用距离最长,MRTD模型计算所得的作用距离约为MDTD模型的2/3,由NEP模型计算所得的作用距离最短,不到MDTD模型视距的1/2。研究表明,实际设计时应根据不同的系统性能选择作用距离模型。

  • 标签: 子弹辐射 作用距离 MDTD MRTD NEP
  • 简介:利用同步辐射X射线形貌术研究晶体缺陷.是近年来发展起来的一种优良的实验方法.本文在研究LNP等晶体缺陷的同时,对这种实验方法进行了系统的探讨,讨论了散射光的消除、焦距的选择、样品的透明度与厚度、曝光的时间、底片的冲洗答问题.以及在缺陷研究中对晶体衍射的劳厄斑点的选取依据.

  • 标签: 同步辐射形貌术 晶体缺陷 实验方法 散射光 X射线衍射分析 劳厄斑点
  • 简介:以CMOS存储单元为研究对象,介绍了仿真在CMOS抗辐射加固集成电路单粒子效应机理及电路抗单粒子加固设计方面的研究进展,讨论了特征尺寸的缩小对单粒子辐射效应的影响,提出了利用交叉隔离和错误猝熄的方法改进传统存储单元的加固性能,并通过试验验证了该方法的有效性。

  • 标签: CMOS集成电路 单粒子效应 仿真 抗辐射加固 交叉隔离 错误猝熄
  • 简介:建立了低地球轨道(lowearthorbit,LEO)等离子体环境下,高压太阳电池阵收集电流的计算方法,计算获得了不同等离子体环境和卫星工作状况下,高压太阳电池的收集电流。分析表明,等离子体密度越高,温度越小,高压太阳电池收集电流非线性增加;同时,太阳电池收集电流随卫星功率和工作电压的增加而迅速增加。

  • 标签: 等离子体 高压太阳电池 电流收集效应
  • 简介:利用TCAD仿真技术,研究了电离总剂量辐射陷阱电荷对0.18μmN沟道MOSFET转移特性的影响.构建了0.18μmN沟道MOSFET的三维仿真结构,获得了在电离总剂量(totalionizingdose,TID)效应影响下,负栅压偏置时器件中电流密度的分布情况.分析了器件浅槽隔离层(shallowtrenchisolation,STI)中氧化物陷阱电荷和界面态陷阱电荷对器件泄漏电流的影响.仿真计算了N-MOSFET的转移特性,仿真结果与辐照试验结果受辐照影响的趋势基本一致,为深亚微米MOS器件的总剂量辐射效应的损伤机制提供了一种分析手段.

  • 标签: TCAD仿真 深亚微米MOS器件 总剂量辐射效应 辐射陷阱电荷
  • 简介:近年来,最高能量在250MeV左右的质子辐照装置因在质子治疗、质子辐照效应研究等领域的应用前景而受到广泛关注。清华大学目前正在计划建设一个此类质子辐照装置,其最高能量可达230MeV,一个工作周期至少输出2×10^11个质子,且引出的束流是准连续的。该辐照装置的核心部分是一个能够将质子由7MeV加速到230MeV的同步质子加速器。简要介绍了该同步加速器的关键技术及设计结果,包括为实现高效累积足够流强而使用的剥离注入技术、为提升加速效率而使用的纵向绝热俘获技术以及为实现束流缓慢引出而使用的三阶共振引出技术。

  • 标签: 质子辐照 同步加速器 Lattice设计 剥离注入 绝热俘获 共振引出
  • 简介:介绍了一种加热去除阳极吸附气体的方法,并利用热传导方程对阳极加热过程进行了理论计算和分析。计算结果表明,要达到有效加热“强光一号”装置使用的阳极钽靶,电流幅值需为2~3.2kA,相应加热时间需为11~4S。

  • 标签: 轫致辐射 二极管 阳极 解吸附
  • 简介:根据双极晶体管电流增益倒数与中子注量的线性关系,基于最小二乘法,提出了先求平均值再线性拟合、先线性拟合再求平均值的两种方法来计算中子辐射损伤常数,并重点对其不确定度进行了评定,给出了自变量和因变量同时存在不确定度时的线性拟合方法。分析表明,两种方法的计算结果一致,但复杂程度不同,实际应用时采用先求平均值再线性拟合的方法更好。同时,还分析了不确定度评定过程中相关性产生的原因,给出了通过解析表达式判断相关性的方法。分析表明,应用协方差传播律,由相关性引入的估计协方差可以用独立参数的不确定度来表达。最后,给出了两种方法在实验数据处理中的应用。

  • 标签: 损伤常数 不确定度 中子注量 电流增益
  • 简介:半导体器件辐射效应数值模拟技术主要研究辐射与材料相互作用的粒子输运模拟、器件内部辐射感生载流子漂移扩散的器件级模拟及器件性能退化对电路功能影响的电路级模拟等,是抗辐射加固设计和抗辐射性能评估中的关键技术。随着先进微电子技术的快速发展,新材料、新结构和新器件的应用为辐射效应建模与数值仿真带来了新挑战。辐射效应数值模拟涉及材料学、电子学和核科学的交叉领域,技术难度大,建模和仿真比较复杂,一些瓶颈问题尚未完全解决。围绕粒子输运模拟、器件级辐射效应数值模拟和电路级辐射效应数值模拟3个方面,梳理急需解决的关键技术问题,介绍半导体器件辐射效应数值模拟技术的发展趋势。

  • 标签: 辐射效应 粒子输运模拟 器件模拟 电路模拟 发展趋势
  • 简介:采用闪烁体加光电管,建立了一套X射线功率谱测量系统,在“强光”1号丝阵Z-pinch实验中,获取了喷气和丝阵负载的X光辐射功率波形。实验表明将X光探测器设置在与主测量管道成90°的分测量管道中,并选用ST-401闪烁体或红光闪烁体为X光/荧光转换材料,能使可见光透过闪烁体而不在闪烁体中有沉积能量。实验中X光探测器的电磁屏蔽也得到了解决。

  • 标签: Z-pinch等离子体 X射线 辐射功率 中子诊断