简介：近日,三星电子在位于美国的2018年三星半导体代工论坛上,公布其全面的芯片制程技术路线图,目前已经更新至3nm工艺。据介绍,三星的7nmLPP将成为该公司首款使用EUV（极紫外光刻）方案的半导体工艺技术。以往三星的制程工艺都会分为LPE和LPP两代.
简介：摘要针对目前室外基站覆盖城中村无线网存在的难点进行分析，本文介绍了同轴电缆分布系统和光纤分布系统方案覆盖城中村LTE网络的规划方案，并对比分析两种方案的优势与缺点,重点介绍了同轴电缆分布系统方案的规划与实现。在城中村无线网络规划中，可因地制宜选择不同方案进行覆盖，保障城中村的无线网络覆盖。
三星已成全球芯片霸主规划芯片制程路线：2022年要上3nm
城中村场景LTE无线网络规划方案探讨邱俊悦1王欢军2
