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  • 简介:KIA-Tencor公司日前推出其领先业界的最新版计算光刻PROLITH11。这种新型光刻让用户首次得以评估当前的二次成像方案,并以较低的成本针对光刻在设计、材料与制程开发等方面挑战,尝试不同的解决方案。这种新型计算光刻还支持单次成像和浸没技术。

  • 标签: 二次成像 计算光刻机 浸没技术