简介:为提高45CrNiMoVA钢表面的耐磨性能,采用HEPJet超音速等离子喷涂系统在其表面制备了Mo涂层,通过场发射型超高分辨率扫描电镜(FieldEmissionScanningElectronMicroscopy,FESEM)、X射线能量谱仪(EnergyDispersiveSpectrometer,EDS)、电子扫描电镜(ScanningElectronMicroscopy,SEM)及高精度三维形貌仪对比分析了涂层与基体的摩擦磨损性能及磨损机理,并对涂层磨损率的影响因素进行了研究。结果表明:轻载荷(试验载荷为5N)、低频率(滑动频率为5Hz)下,涂层的磨损率略低于基体,其磨损机理为粘着磨损和氧化磨损,而基体为粘着磨损、氧化磨损和轻微的磨粒磨损;重载荷(试验载荷为20N)、高频率(滑动载荷为20Hz)下,涂层的磨损率约为基体的50%,磨损机理同样为粘着磨损和氧化磨损,基体则表现为严重的磨粒磨损和氧化磨损;涂层磨损率随载荷的增加呈先上升后下降的趋势;涂层磨损率随滑动频率增大而上升,但上升速度不一,这与摩擦生热量对氧化膜生成速度影响程度密切相关;涂层磨损率随时间延长而稳定上升。
简介:DropletsofCo-37.6wtpctMoandNi-47.7wtpctMoeutecticalloyswererapidlysolidifiedduringcontainerlessprocessingina3mdroptube.Akindofanomalouseutecticappearsinthesetwoeutecticalloyswhenundercoolingisbeyond56and61K,respectively.Thetwoeutecticphasesinanomalouseutecticwereobservedtogrowindendritemanner.Theformationofanomalouseutecticisascribedtothecooperativedendritegrowthofthetwoindependentlynucleatedeutecticphases.Currentdendriteandeutecticgrowththeoriesareappliedtodescribetheobservedprocesses.
简介:采用程序升温氮化的方法制备了钼氮化物催化剂,并用EXAFS方法研究了氮化前后Mo原子的局域配位情况。负载MoO3样品的径向结构函数中有三个峰其中前两个峰对应着最近的Mo-O配位壳层,但是第一个峰与第二个峰的比例比晶体MoO3中的比例大很多,表明分子筛负载的MoO3具有更紧密的结构。氮化以后,Mo2N样品的径向结构函数中有三个峰,对应于一个Mo-N和两个Mo-Mo配位壳层,与面心立方模型符合的很好。根据X射线衍射和EXAFS谱的计算表明,Mo2N中的N原子使Mo-Mo键拉长并削弱。分子筛负载的Mo2N样品具有与非负载Mo2N样品相似的径向结构函数,只是对应于Mo-N壳层的峰较弱,表明负载的MoO3更难氮化。
简介:以便获得两高电镀物品迁居(他们)在高周波的表面的可靠性和罚款维的控制声学的波浪(锯)设备,4-layeredTi/Al-Mo/Ti/Al-Mo电极电影在128°Y-XLiNbO3上被调查由劈啪作响的底层免职。结果显示4-layered电影与常规Al-0.5wt.%Cu电影相比有改进他们可靠性。他们的一生比在5×的当前的密度测试的Al-0.5wt.%Cu电影的长约三倍107A/厘米2和200°C的温度。而且,4-layered电影容易在反应离子蚀刻被蚀刻,罚款维的控制为高周波的锯设备在模式复制期间被认识到。为4-layered电影,最佳瞬间数量和劈啪作响的参数为高他们可靠性是很重要的。