简介：激光箔条云对激光有很高的散射率，光电对抗中越来越多地采用激光箔条云作为激光无源假目标实施无源干扰，或作为激光漫反射体与激光有源干扰设备配合使用，实施激光角度欺骗干扰。基于箔条云对激光的散射原理，分析了两种干扰方式的原理，设计了激光箔条云对激光导引头的有源角度欺骗干扰实验方法，给出了所需测试设备及布站要求。结果表明，干扰效果理想。该干扰方法具有灵活、机动、快速等特点，可作为一种激光有源角度欺骗干扰的新手段。

简介：扫描拼接技术由于原理简单、易于实现而被广泛应用于全景成像系统中,然而该系统中使用的二维扫描镜在工作过程中会引起图像旋转。对二维扫描镜引起的像旋进行特性分析能够指导全景成像系统中像旋校正。假设物理为球面,基于光学反射矢量理论基础对水平扫描和俯仰扫描进行像旋特性分析比较。仿真结果表明二维扫描镜在水平扫描时像旋角与旋转角比例为1∶1,而俯仰扫描不存在比例关系,可以对精确实现光机消像旋提供指导作用。

简介：捷联成像导引头中各个传感器的动态响应不一，直接合成不同传感器的信息提取的制导信息精度差，为获取更高精度的制导信息，需要改进提取方法。匹配滤波理论是在考虑传感器不同的动力学特性情况下的一种信息融合方法，依据传感器动态特性进行信息匹配的方法提高制导信息提取精度。首先建立非制冷全捷联成像导引头及其在制导控制系统中的简化模型，依据导引头上各种传感器主要指标，及匹配滤波的原则，推导出相位匹配器。最后，对匹配后的系统提取制导信息，并参与制导系统半实物测试，对比传统惯性滤波器与相位匹配滤波器的效果。在三轴仿真转台、半实物机及热十字丝目标的配合下，对转台扰动下的非制冷全捷联导引头进行静止和运动目标下的视线角速率提取，结果说明在相位匹配滤波的提取方法获得的视线角速率精度为0．2°／s，精度比传统惯性滤波提取方法提高了1倍。

简介：光源是影响机器视觉输入系统的重要因素，直接影响输入数据的质量和至少30％的应用效果。在线扫描缺陷检测系统中，对光源的亮度、均匀性、直线性、寿命、光谱范围都提出了较高的要求。鉴于LED光源在机器视觉中具有许多优点，以LED线形光源为例，探讨了线形阵列LED光源照明光场分布的影响因素，结合柱面镜对光源单方向约束的特性，介绍了LED阵列和柱面镜组合的聚焦条形照明光源的设计方法。通过仿真，证明了该设计可满足线扫描系统对光源的要求。

简介：扫描电镜能直观观察样品的表面结构,但其高分辨形貌成像图固有的噪声不利于图像分析。针对集成电路器件扫描电镜成像图的去噪声问题,采用了通过滑动条方式自适应设置图像二值化阈值,将数学形态学处理方法与图像二值化相结合,实现了对图像噪声的自动去除处理;同时还设计了通过手动勾勒图像中的多边形区域实现去除噪声的功能;为使图像达到更好的效果,系统还可允许针对自动去噪后的图像自行选择是否进行手动去噪,并设计实现了风格直观简洁,易于操作的交互式用户界面。对多幅集成电路器件扫描电镜成像图进行去噪声处理的结果和对去噪前后的图像进行无参考图像质量评价的数据表明,该方法有效地改善了扫描电镜图的信噪比,获得了突出前景等有用信息。

简介：法布里-珀罗干涉仪能够实现对中高层大气风场的探测。基于扫描式法布里-珀罗干涉仪对大气风场探测的可靠性与准确性，对全空式法布里-珀罗干涉4X（All-skyFPI，ASFPI）探测风场的性能进行检验。通过2015年6月在新疆进行的全空式FPI与扫描式FPI557．7nm气辉观测对比实验，分析结果显示两者探测得到的视线风和水平风场具有较好的一致性，验证了全空式FPI测风性能的可靠性。

简介：提出了由步进电机控制振镜运转,基于线阵TDI-CCD相机的扫描成像设计方案.通过研究线阵TDI-CCD器件的结构与工作原理,得到对振镜扫描速率和相机行扫描速率进行同步的方法,实现了空间位置配准.采用EC-11相机进行成像实验,扫描成像系统输出了可辨别的图像.

简介：设计了一种大口径内扫描三档变焦光学系统。系统工作波段为7.7～10.3μm,焦距为65mm、130mm、390mm,变倍比为6∶1,系统F数为1.67,最大口径为240mm。系统具有较好的成像质量,且对冷反射和扫描温差进行了优化控制,这种变焦光学系统具有大口径、长焦距,能够用于对远距离小目标跟踪的特点,在高性能红外热像仪中得到较好的应用。

简介：基于光电转换基本原理，设计并研制了用于转镜式高速扫描相机扫描速度的检测装置，包括均匀脉冲光源、精密双狭缝、超快响应光电转换器以及高带宽、高采样率数字示波器等。论述了检测装置的核心部件，用该装置实测了SJZ-15型转镜扫描相机名义扫速为4．5mm／μs的扫描速度，计算出了扫速不均匀性。按照国军标GJB3756，对检测装置的测量不确定度来源进行了分析，给出了该装置的不确定度评定方法及测量不确定度，对检测结果的评定表明，该检测装置的相对测量不确定度不大于0．1%，远低于目前转镜扫描相机的最大扫速不均匀性水平。实验证明，设计的检测装置具有很高的准确度和可靠性。

简介：通过分析F-P扫描干涉仪的工作原理,基于STC89C52RC单片机,采用PA93功率放大器驱动压电陶瓷,设计了1064nm平平腔结构的F-P扫描干涉仪。腔镜反射率为98%,精细度156,腔长0.1~100mm连续可调,对应自由光谱区1.5~1500GHz和分辨率9.65~9650MHz。压电陶瓷驱动电压和频率通过4×4矩阵键盘,可以在0~200V和1~30Hz连续可调,显示在1602液晶屏上。同时可以通过RS232串口与计算机通讯,在上位机使用LabVIEW软件界面方便地设置压电陶瓷驱动电压和频率。最后使用该F-P扫描干涉仪,对激光二极管泵浦Nd：YVO4激光器纵模进行了测量,验证了整个系统的工作性能。

简介：英国防务评估研究署正在研制一种由计算机控制的电子步枪，英国《星期日泰晤土报》最近披露了这种新型武器的设计情况。

简介：血片镜检可以实现白细胞的分类计数,同时还能提供详细的白细胞形态等特征,有助于疾病的诊断。目前国内大多数医院白细胞检测的主要方法是人工镜检,但人工镜检依赖医务人员的工作经验,劳动强度大,检测效率低。因此提出一种基于RGB彩色空间分量差的白细胞细胞核的快速分割方法。通过显微镜分析人体外周血液涂片的显微图像,发现白细胞细胞核区域的B分量和G分量的差值明显比其他区域大,可以通过一个简单8bit的B-G运算,来实现五类白细胞细胞核的快速分割,白细胞细胞核的平均分割时间为0.26ms,体现了较好的鲁棒性和实时性。该方法成功应用到白细胞的实时在线自动扫描镜检中,提高了镜检的效率。

简介：介绍了2002年5月发射的中国"海洋一号"卫星10通道水色扫描仪的光学系统设计.该系统有10个探测通道,波段从可见到远红外,空间分辨率1.1km,并首次采用了"K镜"消像旋系统.

简介：电工、电子和电机用陶瓷已经占有高技术陶瓷80%的市场。包括从简单的氧化物和氮化物到复杂的复合物。应用范围从绝缘体及电路基板材料到集成电路元件和压电陶瓷。最新的应用是高温超导体。

简介：随着蓝宝石芯片从军用转向民用步伐的加快，它将给微电子产业带来一场革命，促进手提电话、计算机甚至卫星等电子产品实现微型化。预计到2000年左右，使用蓝宝石芯片的电子产品将陆续向世。

简介：提出了一种新的基于霍夫变换和相位相关的电子稳像算法。首先根据1D相位相关技术，通过搜索角度脊来得到旋转参数；将待处理图像去旋转后，再采用2D相位相关来得到平移参数；在建立参数运动模型的基础上，通过自适应均值滤波确定各帧修正矢量。提出的方法可以充分利用FFT的高效运算，实验结果表明采用本方法能准确有效地处理具有旋转和平移的电子稳像问题。

简介：Ⅲ族氮化物（又称GaN基）宽禁带半导体属于新兴的第三代半导体体系，在短波长光电子器件和功率电子器件领域具有重大应用价值。过去10多年，以蓝光和白光LED为核心的半导体照明技术和产业飞速发展，形成了对国家经济和人民生活产生显著影响的高技术产业。近年来GaN基功率电子器件受到了学术界和产业界的高度重视，形成了新的研发和产业化热点。首先介绍了半导体照明技术和产业的发展历程和现状，分析了当前GaN基LED芯片技术面临的关键科学和技术问题；然后重点介绍了GaN基微波功率器件和电力电子器件的发展历程和动态，包括微波功率器件已经取得的突破性进展和产业化现状，电力电子器件相对Si和SiC同类器件的优势和劣势，并对GaN基功率电子器件当前面临的关键科学和技术挑战进行了较详细的分析。

简介：由中国光学学会和国际光学工程学会(SPIE)联合举办的2007亚洲光电子国际会议(PhotonicsAsia2007)将于2007年11月11～15日在中国北京召开。亚洲光电子会议是亚洲最大的光学、光电子学学术交流和产业交流的盛会。会议将对学科的最新发展趋势、技术应用、产品发布、市场分析、投资调研等各类问题进行广泛的讨论和交流。大会主席是中国光学学会理事长周炳琨院士和2007SPIE主席Mr.BrianCulshaw。王大珩院士和母国光院士担任大会名誉主席,庄松林院士、谢树森教授分别担任学术委员会主席和地方组委会主席,倪国强教授和丁伯瑜教授分别担任大会秘书长和大会执行秘书长。会议的承办单位

简介：在法国国家科学研究中心（CNRS）2013年2月发布的《中法实验室生活——2012年科研合作总结特刊》中,法国驻武汉总领事馆科技处科技专员MarcBondiou先生撰文介绍了法中光电子学研究合作,概要如下：

简介：<正>2014年6月18~21日,武汉·中国光谷,2014光电子器件与集成(OEDI)国际学术研讨会(OptoelectronicDevicesandIntegration,OEDI)在华中科技大学武汉光电国家实验室(筹)(WNLO)隆重举行。此次国际学术研讨会由武汉光电国家实验室(筹)(WNLO)和美国光学学会(OSA)联合承办,