简介：根据激光对抗中引偏干扰的特点，提出了适应于引偏干扰效果评估的准则，对其合理性进行了分析，并设计了干扰效果评估试验方案，模拟试验结果表明指向角度的变化反映了“干扰”激光的存在。

简介：为有效评估红外对抗干扰效果,通过分析红外对抗干扰效果评估的一般方法,提出了基于图像特征的红外对抗干扰效果自动评估方法,给出了可行的图像特征向量组成,并通过实测数据进行了实验验证。结果表明,该方法可对红外对抗干扰效果进行定量和自动的评估,在红外对抗干扰效果评估试验中具有一定的应用价值。

简介：2015年6月13日下午，在武汉光电国家实验室A101会议室，2015国际光学年·武汉光子周活动开幕式顺利举行，武汉光电国家实验室主任叶朝辉院士宣布开幕并作题为《精密测量是物理学发展的驱动力》的战略发展报告。

简介：为了探索光谱成像干扰效果的评估方法,基于实施干扰前后光谱图像数据图像特性的变化,提出了应用实施干扰前后光谱图像熵的变化量评估光谱成像干扰效果的方法,结合光谱成像伪装干扰试验实测数据对该方法进行了验证分析。结果表明,图像熵的变化量可以定量、精确反映干扰对图像特性的影响,并可便捷、直观地展示光谱成像干扰效果在不同光谱波段之间的定量差别和细微变化,因此可以作为光谱成像干扰效果的一种定量评估指标。

简介：

简介：由中国光学学会和国际光学工程学会(SPIE)联合举办的2007亚洲光电子国际会议(PhotonicsAsia2007)将于2007年11月11～15日在中国北京召开。亚洲光电子会议是亚洲最大的光学、光电子学学术交流和产业交流的盛会。会议将对学科的最新发展趋势、技术应用、产品发布、市场分析、投资调研等各类问题进行广泛的讨论和交流。大会主席是中国光学学会理事长周炳琨院士和2007SPIE主席Mr.BrianCulshaw。王大珩院士和母国光院士担任大会名誉主席,庄松林院士、谢树森教授分别担任学术委员会主席和地方组委会主席,倪国强教授和丁伯瑜教授分别担任大会秘书长和大会执行秘书长。会议的承办单位

简介：

简介：2010年11月3日～5日，由武汉光电国家实验室举办的第三届国际光子与光电子学会议（POEM2010）在武汉·中国光谷武汉科技会展中心成功召开。

简介：第五届国际光子与光电子学会议（InternationalPhotonicsandOptoElectronicsMeeting,POEM2012）于2012年11月1-2日在武汉光电国家实验室盛大召开。国际光子与光电子学会议是由武汉光电国家实验室发起的覆盖光电子领域的大规模、多学科、综合性、高水平国际会议。经过多年坚持不懈的努力，已经形成一个紧密依托“武汉·中国光谷”、汇集众多国内外知名专家、学者、学术机构和企业，集学术性和实用性于一体的高水平、高质量学术会议品牌。

简介：2013年5月25-26日，第六届国际光子与光电子会议（The6thInternationalPhotonicsandOp—toElectronicsMeetings，POEM2013）在武汉光电国家实验室召开。开幕式上，美国光学学会的首席执行官ElizabethA．Rogan女士和华中科技大学副校长、武汉光电国家实验室常务副主任骆清铭教授到会致辞。4名本领域权威专家作全体大会报告，分别是：澳大利亚科学院院士、工程院院士、国际电工委员会委员，澳大利亚新南威尔士大学教授及超高效光电学研究中心执行研究主任MartinGreen，澳大利亚科学院院士、工程院院士、澳大利亚桂冠院士

简介：第四届“中国光谷”国际光电子博览会暨论坛（OVCEXPO2005）已于2005年11月5日闭幕，这次盛会是OVCEXPO历史上规模最大、专业化程度最高、论坛质量最好的一次展会，在海内外取得了良好的口碑。四年的孕育再次证明，OVCEXPO的影响已从华人经济圈渗透到了全球经济圈，这更加坚实了OVCEXPO“追光”的脚步。在此我们诚挚邀请您在2006年11月2～5日参加第五届“中国光谷”国际光电子博览会暨论坛（OVCEXPO2006），交流信息、增进合作、共谋发展。

简介：首届中国国际应用激光、光电技术贸易博览会暨研讨会于3月21日至23日在上海新国际博览中心拉开帷幕。全场汇聚来自中、德、美、加、瑞以及中国台湾等18个国家和地区的163家展商参展。其中。国际展商占65％。展区分为激光元件和激光设备两大主题区域，涵盖了激光、光电子的整个产业链。展会期间还举办了国际应用激光技术中国研讨会等多场高质量的激光技术交流会议，触及激光产业最前沿。

简介：为推动光电行业科研成果市场化和产业化,给光电科技精英提供脱颖而出的机会,武汉青山区人民政府、苏州独墅湖科教创新区、西安市碑林环大学创新产业带、常熟高新技术产业开发区以及招商局蛇口工业区控股股份有限公司决定共同举办“第一届中国欧雷奥（OLION）光电精英赛”（以下简称“精英赛”）。

简介：