简介：利用双晶单色器和精密二圆衍射仪，在北京同步辐射装置建立了同步辐射X射线驻波实验技术，并用这一实验技术结合X射线衍射方法，研究了Si晶体中外延生长的超薄Ge原子层的微结构。实验结果表明，由于Ge原子的偏析，在Si晶体样品中形成了共格生长的GexSi1-x合金层，浓度平均值为X=0．13；650℃退火会使Ge原子向表面扩散，Si晶体中的合金层消失，在晶体表面形成接近纯Ge的单原子层。
简介：本文主要利用X射线衍射技术研究由直流／射频磁控溅射方法制备的PbZr0.53Ti0.47O3(PZT)/La1.85Sr0.15CuO4(LSCO)集成薄膜的界面和表面的微结构，从而给出它的界面和表面的均方根粗糙度，有效晶粒尺寸，应变大小，用计算反射率方法对小角衍射曲线做理论模拟，从我们的实验结果可见，当所制备的铁电／超导薄膜PZT层厚度从48．7nm到996．0nm变化而LSCO层保持1000？不变时，PZT与LSCO的应变状态不同，相差近一个数量级，同时PZT层表面的均方根粗糙度略有增加，本报告对实验结果作了初步讨论。
简介：
简介：该标准描述了接受和使用核工业设计和分析用非实时高集成软件的最低要求。该标准与ANSI/ANS-10.7-2013相关联,该标准为非实时高集成软件的开发者提出要求。该标准中所涉及的一系列活动及操作能够让复杂仿真系统用户确信该软件在根据相关要求开发出来后符合用户所提出的明确要求,以正确的方式安装并使用。该标准所讨论的软件类型适用于复杂物理系统和现象的分析、设计和模拟。
同步辐射X射线驻波实验技术研究半导体超薄异质外延层
PZT／LSCO集成薄膜的微结构性质研究
铁电／超导集成薄膜的微结构性质研究
Bi2.13Sr1.87CuO6＋δ超导体中的两维调制结构
ANSI/ANS-10.8-2015核工业非实时高集成软件用户要求
