简介:采用高氢稀硅烷热丝化学气相沉积方法制备氢化微晶硅薄膜。其结构特征用Raman谱,红外透射谱,小角X射线散射等来表征。结果表明微晶硅的大小及在薄膜中的晶态比Xc随氢稀释度的提高而增加。而从红外谱计算得到氢含量则随氢稀释度的增加而减小。小角X射线散射结果表明薄膜致密度随氢稀释度的增加而增加。结合红外谱和小角X射线散射的结果讨论与比较了不同相结构下硅网络中H的增加而增加。结合红外谱和小角X射线散射的结果讨论与比较了不同相结构下硅网络中H的键合状态。认为随着晶化的发生和晶化程度的提高H逐渐移向晶粒表面,在硅薄膜中H的存在形式从以SiH为主向SiH2转变,即在微晶硅膜中主要以SiH2形式存在于晶粒的界面。
简介:《中华人民共和国标准化法》(以下简称《标准化法》)第十三条规定:“标准实施后,制定标准的部门应当根据科学技术的发展和经济建设的需要适时进行复审,以确认现行标准继续有效或者予以修订、废止。”为此,《中华人民共和国标准化法实施条例》又进一步明确规定了“标准复审周期一般不超过五年。”但从过去和目前的情况看,这项工作对于标准判定部门及标准比行政主管部门重视不够,以致于5年以上标龄的标准有很多未进行复审,影响了核工业的技术进步,并且在标准化管理工作上造成混乱。要改变这种状况,笔者认为,首先要在标准化主管部门依据标准化法尽快建立本行业的规章制度,定期复审标准,并将此项工作有计划、有组织地进行。