简介：研制了一种采用修正环在线修整抛光盘技术及专家数据库系统控制的智能型纳米级超精密抛光机,用于超精密平面抛光。文中介绍了其设计原理、运动模式、专家控制系统的设计与实现,加工结果表明,该型抛光机可将加工余量去除误差控制在1nm以下,并获得表面粗糙度小于0.2nm的平面。

简介：系统地分析了蓝宝石抛光工艺过程的性能参数,通过大量实验总结出了其影响因素并提出了优化方案。结果表明,采用粒径为40nm、低分散度的SiO2溶胶磨料并配合以适当参数进行抛光,可以获得良好的表面状态和较高的去除速率,能够有效提高蓝宝石表面的性能及加工效率。

简介：光电子与信息产业的迅猛发展加速了化学机械抛光技术（CMP）的更新。CMP作为目前最好的实现全局平面化的工艺技术（整体平面化的表面精加工技术），借助超微粒子的切削作用以及材料的化学腐蚀作用可以将硅基材料抛光成光洁平坦表面，已广泛应用在硅基材料、光学元件和电子集成电路等元件的表面平坦化处理。随着抛光精度的逐渐提高，CMP已成为首选抛光技术。为了获得超高精度表面，对抛光材料的调配与生产的要求也不断提高，二氧化铈（CeO2）作为高效的抛光材料，在高精度抛光中得到广泛应用。

简介：设计了一种在精密加工操作中对操作人员及外界非正常颤抖信号进行检测并自动补偿的微型操作仪。仪器结构精巧，具有可拆卸及更换的加工探头，可满足不同精密加工的使用需求。基于经典PID闭环控制和边缘检测原理，采用激光干涉仪对精密加工位置信号进行检测，对干扰信号进行判断并做出相应补偿措施；采用压电陶瓷微电动机PM的逆向运动自动补偿颤抖产生的误差，保证精密加工的可靠性和精确度。实验表明，该微型仪器能自动补偿颤抖干扰信号，精度可达到1μm，对精密加工的精度提高及误差补偿研究有一定借鉴价值。

简介：

简介：2016年5月，上海交通大学丁文江院士携同11人前往日本4个城市，进行了为期6天的压铸行业的参观学习之旅。此次日本之行，其目的是能够深入了解日本压铸企业，零距离观摩、学习和借鉴日本压铸企业的“过程管理”方法。

简介：据报道，近日，富士康集团计划投资1000亿元，预将山西晋城打造为“全球精密制造之都”，项目投产后年产值可超1500亿元。

简介：把精密合金产业做大、做强。使之不断“成长”，这是重庆仪表材料研究所历届所领导和全体员工多年以来的夙愿。然而，由于设备更新的速度赶不上科研与生产的发展，使得该所在产销两旺，节节攀升，在宗定单纷至沓来之时，竟不敢爱理，其原因是因为该所的真空熔炼炉“吃”不下。