简介：低温等离子体技术(LowTemperaturePlasmatechnique，LTP)是近年来发展较快的一门材料表面改性技术，本研究采用LTP技术对氟橡胶进行表面改性，考察了改性后的氟橡胶应用于三氨基三硝基苯炸药(TATB)为基的PBX体系中(TATB-PBX)对PBX力学性能的影响，结果表明将LTP技术运用到PBX中，对提高PBX的综合性能是行之有效的。

简介：研究了丝阵负载Z-pinch的气化及电离过程、等离子体形成及融合过程、等离子体的不稳定性及其发展、先驱等离子体的产生机制及其辐射特性、双层丝阵负载内外层丝阵等离子体的内爆碰撞辐射过程、内爆聚心时刻X光辐射快速变化过程及能量转换机制。在“强光”1号、俄罗斯S300及ANGARA-5-1装置上获得了较全面地反映内爆物理过程的实验结果。

简介：采用二次量子化的方法求解等离子体凝胶模型下的基态能量,并计算出微扰对基态能量的一级修正,计算结果接近于实际金属。

简介：射流是自然界中的一种普遍现象。在惯性约束聚变（ICF）、天体物理的研究中，射流也是其中重要的过程，对射流的研究是相关领域中的重要研究内容之一。在实验室，利用高功率激光模拟相应的射流过程，并进行实验诊断，获得的结果对ICF的理论研究以及校验相关程序，具有重要价值。

简介：强激光在冕区等离子体中传播到临界面附近生成相对论电子和相对论电子束流在随后较长一段稠密等离子体区的能量传输是快点火中的关键问题。对快点火条件下的激光等离子体参数，临界面附近产生的前向快电子电流往往超过阿尔芬极限电流，必须在稠密等离子体中产生中和回流，快电子流才能在稠密等离子体中向前输运。横向电磁不稳定性（类Weibel不稳定性，WI）和纵向静电双流不稳定性（TSI）很容易在这种电子双流体系中激发，前向电子束会被调制或成丝状结构，同时激发电磁场，粒子部分动能会转化为电磁场能量。不稳定性在非线性饱和后，发生电流丝的合并、磁场重联等过程，部分电磁场能量会再转化为粒子能量，表现为对离子体的横向加热。Weibel不稳定性的作用可能形成围绕传播电子束的磁通道，对快电子的定向和准直传播是重要的。TSI激发的纵向静电场对磁场通道会有明显的调制甚至破坏作用，直接影响高能电子流从激光吸收区到燃料压缩区的准直传播。

简介：脉冲电晕等离子体处理烟道废气（PPCP法）属于干法脱硫；流程简单；能同时脱硫脱硝；产物是肥料，可实现资源的循环利用；无二次污染；工程造价和运行成本低等优点。但由于脉冲电晕等离子体反应器在短脉冲电压的作用下阻抗变化的复杂性，使得脉冲能量难以有效注入反应器，导致能量注入效率低和脉冲电源关键器件的寿命缩短，因此，研究能量注入效率非常重要。

简介：压强在几十个兆巴到上百兆巴之间的过渡区状态方程一直是实验室和工程应用中关心的重要问题，在这个范围内既没有实验数据也没有很好的理论来描述，例如，密度泛函的方法由于不含温度而无法适用于过渡区：TF模型的计算由于过渡区的温度压强不太高而使得结果不再令人满意。文中对同类的平均原子结构作了几点改进：（1）考虑了稠密物质中的势阱效应，对传统平均原子模型作动态自由电子判据改进；（2）将准自由电子细分为4个部分，分别处理；（3）修改了中心场近似下正能态波函数的边界条件。在计算压强方面，考虑了共振态对电子压强的影响，引进了量子交换效应和库仑关联效应对压强的贡献。

简介：温度从室温到10ev的状态方程一直是实验室和工程应用中关心的重要问题，在这个温度范围内存在大量的实验状态方程数据，对各色各样的理论模型提出了强烈的挑战，对低温稠密等离子体而言，TF模型的计算结果不再令人满意。Zink在早些时候对TF模型作了非自洽的电子壳层效应修正，但他给出的壳层效应明显太强了。Rozsnyai则把Zink的方法发展成一种成熟的自洽场方法，但他只计算了电子的动压，在低温情况下，压强的走向不对，无法在常温常密度附近形成固体。

简介：在强激光重元素靶等离子体中，电子是不能完全剥离的，带有未离化束缚电子的原子的形状受强激光或超强激光与它的相互作用要发生变化，从而产生极化电流，势必影响强激光等离子体相互作用，随着激光聚变发展的要求，精密物理的需要，研究束缚电子对受激喇曼散射的影响很有必要。

简介：采用闪烁体加光电管，建立了一套X射线功率谱测量系统，在“强光”1号丝阵Z-pinch实验中，获取了喷气和丝阵负载的X光辐射功率波形。实验表明将X光探测器设置在与主测量管道成90°的分测量管道中，并选用ST-401闪烁体或红光闪烁体为X光/荧光转换材料，能使可见光透过闪烁体而不在闪烁体中有沉积能量。实验中X光探测器的电磁屏蔽也得到了解决。

简介：采用等离子体预处理技术和优化的金刚石薄膜沉积工艺，以期为金刚石薄膜涂层工具的制备开发一种新的实用易行的表面预处理方法。等离子体预处理和金刚石薄膜沉积都在自行研制的热丝CVD系统中进行的。等离子体预处理是在脱炭气氛中进行，基体温度控制在硬质合金的再结晶温度范围内，处理总时间为2h。

简介：自J．A．Stamper首先对自生磁场进行实验研究以来，人们的探索表明超强激光与固体靶相互作用中，在过密和次密等离子体区产生可能高达10^4T的自生磁场。

简介：研究等离子体辐射不透明度和状态方程的核心问题是原子结构计算问题。平均原子一直是主流模型，但有缺陷：电子交换势一直停留在Fermi—Dirac统计基础上；自由电子与束缚电子的划分采用了经典判据；电子间的自作用和自交换作用难以真正抵消；给出的能级、电子占据数、化学势特别是基态能量，很不准确。如果温度持续降低，等离子体应逐渐凝聚成固态物质，平均原子应过渡到真实原子。而绝大多数平均原子模型都无法作到这一点。要精确计算等离子体内的原子结构参数，必须使用具有很高精度的Hartree-Fock自洽场原子结构模式。

简介：探讨用等离子体喷涂方法制备降低较高强度材料与U-Nb合金之间的摩擦性能的减磨层的可行性以及这些减磨层的摩擦特性。选用Sn为软涂层，ZrO2为硬涂层。采用SulzerMETCO9M等离子体喷涂机制备了Sn单层、ZrO2单层、Sn／ZrO2双层、Sn+ZrO2混合层等4种涂层。利用CSEM型销盘型摩擦磨损试验机分析了半径为3mm的U-Nb合金对偶销在涂层上滑动时的干摩擦特性，滑动速度分别为0．42，6．4，26．16cm／s。涂层为典型的等离子体喷涂涂层形貌。表面为Sn的涂层颗粒熔合状况和致密性比ZrO2单层好，其粗糙度低，Sn+ZrO2混合涂层表面形貌与ZrO2单层相近。Sn和ZrO2分别以bcc结构的Sn和四方结构ZrO2结构存在。

简介：等离子体的辐射不透明度和状态方程是工程物理中的重要参数，这些物理参数取决于等离子体内大量离子的统计行为。由于高温稠密等离子体内的离子类型多达百万，一般只能用平均原子模型进行模拟。当计算轻元素稀薄等离子体原子结构时，平均原子结果与实验有一定的偏差，而此时等离子体内离子类型数目有限，正是细致组态模型适用的情况。标准的Saha方程需要孤立离子的能级，计算孤立离子结构的程序很多。当然，这些离子能级还可从实验获得。但是，标准的Saha方程使用的能级不含等离子体背景效应，能级数会发散。为了消除该缺陷，Saha方程中引进了等离子体背景修正。

简介：采用微波等离子体技术研究了一氧化碳氢化制乙炔反应的产物选择性。对影响乙炔选择性的几个因素，如微波输入功率、反应物的比例和体系压力进行了研究。乙炔的选择性随着微波输入功率的增加，反应物比例和体系压力的降低而增大。在最佳条件下，乙炔的选择性可达到９５．８７％，甲烷选择性的变化规律和乙炔相反，乙烯和乙烷的选择性很低。等离子体中的电子温度（或能量）和密度采用了静电悬浮双探针诊断，电子密度和能量受微波输入功率和体系压力的影响。在反应中，电子能量决定化学反应是否进行，电子密度决定产物的组成。根据自由基反应理论解释了乙炔选择性在Ｈ２＋ＣＯ等离子体化学反应中随影响因素的变化规律。更多还原

简介：为了提高Mach-Zenhder干涉仪的分辨率，需要提高探针光输出亮度。用系列程序进行了低功率密度长焦线类镍银的优化设计。1％预脉冲，驱动激光能量EL=95J，焦线100μm宽、27mm长，25mm长靶，f12=2．75ns，增益系数G=10／cm，增益长度积GL=25。

简介：运用等离子喷涂技术制备多层屏蔽复合涂层，根据钽、钨、锡材料的物理特性及工艺特点，分别设计了自动喷涂工艺，既保证了涂层的性能，又提高了喷涂工艺的重复性；在喷涂区域使用氩气保护装置制造局部隋性气氛，简便有效地控制了涂层材料在高温等离子体喷射过程中的氧化：综合使用温度测试、力学拉伸、金相组织及化学成分等分析方法，综合考虑优化喷涂功率、喷涂距离等喷涂参数对基体温度、涂层中氧化物含量、涂层密度的影响，优化喷涂工艺参数，制备出厚度均匀、绢织致密的Ta／W/Sn复合涂层。

简介：三体碰撞在一定条件下可简化为两体碰撞处理，本文计算三体碰撞问题的几种简化模型与数值实验结果的偏差，讨论了简化模型的适用条件。

简介：用纳米结构粉末做喂料进行喷涂，缩短了颗粒熔化时间，在有限的飞行时间内，颗粒熔化效果更好，从而制备的涂层孔隙率更小，表面更平整。用ZrO2纳米结构喂料制备了等离子喷涂层，研究了功率、粒度、氧化钇含量等工艺参数条件下涂层的微观组织、孔隙率、相组成及抗热震性能。经X衍射分析表明，原始粉末由m-ZrO2,t-ZrO2,c-ZrO2构成，单斜相的含量为11％，主要由四方相和立方相构成。