简介：TB4397063840含n≈k超薄金属膜的周期对称膜系的性质及窄带高反膜设计=Characteristicsofperiodicsymmetricalmultilayercoatingsincludingultrathinmetallicfilmofn≈kanddesignofahigh-refIectivityreflectionfilterwithnarrowbandwidth[刊,中]/谭满清,林永昌,赵达尊(北京理工大学.北京(100081))

简介：高能硫、氪、氙离子轰击聚酯(PET)和聚碳酸酯(PC)膜后，对样品进行陈化和紫外线照射敏化．用电导法着重研究蚀刻条件对样品的归一亿径迹蚀刻速率(灵敏度)的影响，结果表明优化条件下灵敏度较通用条件下提高约2倍，PET的灵敏度可达1000，PC的灵敏度可达2000，可以用于制备纳米孔径核孔膜．核孔膜中填充的铜纳米线的电镜照片显示出纳米线最小直径为20nm．用电导法计算纳米孔的孔径，该值与纳米线直径的电镜测量值在孔径大于30nm时符合良好．

简介：薄膜厚度的测量通常有多种方法，但对超薄的膜厚，要达到较高精确度，且测量手段又较为简洁的，则椭偏仪法是理想的选择。本文对这种测量材料膜厚的光学方法从基本原理、仪器特点、测量过程、样品状态等方面，均作了全面的分析。

简介：利用磁谱仪得到不同能量的单能电子束,让这些电子束穿过不同厚度的铝膜,研究不同能量的电子在铝膜中的吸收系数和能损,得出吸收系数与电子能量的经验公式,与已有的吸收系数经验公式进行了比较,测量到的能损和Fluka软件模拟计算的结果进行了对比,观察到它们之间都能够较好地符合。说明该实验测量的数据和得到的质量吸收系数公式是可靠的,对β射线的防护具有重要参考价值,Fluka软件能够用于较高能量电子能损的计算。

简介：不对称蚀刻法的分桥表明，在灵敏度不变时可以得到小孔径核孔膜。实验显示，由于孔径不均匀现象的制约，核孔膜的孔径可减小到1／2。温度梯度蚀刻法的分桥表明，导通时间的减小与膜两面的温度差成正比，在实际条件下孔径减小到1／5。模拟计算表明，采用该方法可得到控状孔核孔膜，但蚀刻过程很难控制。

简介：由于终端光学组件在整个金工装配过程中必须做到洁净无损运输，现场洁净无损精确安装，才能达到实验所需要求。终端光学组件的重量800kg，目前安装到靶室的终端光学组件共有8套，所以整个终端光学组件精密装校时间长，危险性大。

简介：点面距离是高中立几中的一个重点内容，也是高考的热点之一。从平面外一点引平面的垂线段,垂足的位置不好确定，解决垂线段的位置问题是求点面距离的关键所在。转化思想是一种极其重要的数学思想,尤其在立几当中更是体现得淋漓尽致，例如把空间问题转化为平面问题，把证“线面垂直”转化为证“线线垂直”，把证“线面平行”转化为证“线线平行”，把点面距离转化为点线距离等等。下面根据我多年的教学体会，从转化的角度把求点面距离的方法大致归结为三类。

简介：O484.42003021190稀土Nd,Ce掺杂硅基薄膜光致发光特征=PhotoluminescencepropertiesinNd,Ce-implantedSi-basedfilms[刊,中]/元美玲(南昌大学物理系.江西,南昌(330047)),刘南生…//发光学报.—2002,23(3).—291-295测量了Nd,Ce稀土离子注入Si基晶片,在不同离子注入剂量、不同退火条件下的室温光致发光(PL)谱,结果表明它们均具有蓝、紫发光峰,且发光稳定。在一定范围内发光效率随掺杂浓度的增加而增大,随退火条件的不同而改变。运用原子力显微镜(AFM)对样品的表面形貌进行了观察,结果显示,样品表面颗粒大小、粗糙度将影

简介：O484.12002042806溅射方法生长的氧化锌薄膜的阴极射线和光致发光特性=GrowthandCL/PLemissionpropertiesofZnOfilms[刊,中]/林碧霞,傅竹西,贾云波(中国科技大学结构分析开放实验室.安徽,合肥(230026)),廖桂红(中国科技大学物理系.安徽,合肥(230026))∥发光

简介：O484.12003053737铌酸锶钡薄膜的微结构与电光性能的研究=Microstructureandelectroopticalpropertiesofstrontiumbariumniobatethinfilm[刊,中]/叶辉(浙江大学现代光学仪器国家重点实验室.浙江,杭州(310027)),MelanieMTHo…//光学学报.-2002,22(10).-1170-1175叙述了使用溶胶-凝胶法在MgO(001)的衬底上制备铌酸锶钡薄膜的过程,膜层厚度可达5μm。通过X射线衍射、摇摆曲线、(?)扫描、喇曼散射光谱等方法研究了薄膜的微结构性能,实验发现,铌酸锶钡薄膜具有了较好的

简介：O48499010375短通长截止滤光膜边限点的漂移=Boundarylimitedpointshiftofshort--passandlong-cut-offfilterfime[刊,中]/王宪民(云南光学仪器厂第三分厂.云南,昆明(650114))//云光技术.—1997,29(5).—20-23叙述了短波通、长波截止滤光膜截止边限点的漂

简介：利用温度场计算结果,计算了激光辐照下金属铁氧化膜厚度的增长及氧化放热;利用多层膜反射理论,结合氧化膜厚度,分析了氧化膜导致的激光吸收增强效应.结果表明,波长为1.035μm激光在功率密度为2kW·cm-2辐照期间,氧化放热对温度场的贡献很小,对工程应用来说可以忽略,而氧化膜带来的吸收增强效应影响较大,不能忽略.

简介：通过采用数字像面全息与同轴全息技术拍摄透明物体以及不透明物体的全息图,并在计算机上再现。结果表明,当记录较小物体的全息图像时像面全息技术更加合适。

简介：“任意反射面的速度干涉仪”VISAR（VelocityInterferometerSystemforAnyReflector）技术，已成为诊断冲击作用下样品自由面速度剖面或粒子速度剖面的主要技术。其主要优点在于能够对高速度、高加速度运动事件进行非接触的连续测试。

简介：化学反应混凝微滤技术是处理放射性废水的一种新型实用技术，作为分离单元核心的聚偏氟乙烯中空纤维微滤膜是一种性能优异的水处理膜材料，具有化学稳定性好、抗吸附污染性好、高装填密度等优点，但在辐射环境下性能会发生一定程度的改变，从而影响材料的使用性能。文中在一个较宽的辐射剂量范围内研究聚偏氟乙烯中空纤维膜的性能变化，为该膜的工程应用提供依据。

简介：用离子束技术探讨了Si表面纳米Ti薄膜制备的可行性以及Ti薄膜组织结构与离子束工艺之间的关系。实验进行试样表面预处理、轰击离子能量、离子密度、温度、沉积时间等离子束工艺参数对单晶Si(111)表面沉积的Ti薄膜结构的影响。采用原子力显微镜(AFM)和扫描电子显微镜(SEM)分析了Ti膜表面晶粒形貌，并用X射线衍射仪(XRD)和俄歇电子谱仪(AES)分析了Ti膜的结构和成分。由于残余气体的影响，Ti膜发生了不同程度的氧化，随温度升高和轰击离子强度增加氧化愈加明显。

简介：传统的前馈式抛物面天线辐射方式，存在馈线较长、不能沿天线轴线摆放馈线以及不方便天线旋转等缺点。随着天线口径的增大，这些不足之处对天线性能的影响越来越大，因此有必要研究采用双反射面方式实现超宽带高功率微波辐射。

简介：为了测量弹丸水面落点的位置,建立了基于CCD相机动态像面的测量模型。该模型通过CCD相机辅助采集相关点位的图像信息,对水面落点的位置函数以及误差进行了研究。首先,利用空间几何获得靶船上三定点相对于测量船的方位、俯仰信息。接着,结合t时刻观测图像上定点的像面坐标,运用底片常数模型建立像面坐标和角度信息两套参量之间的关系函数,从而得到目标落点的方位、俯仰信息,再利用异面交会法计算出目标落点位置。最后,分析了目标落点位置的误差来源（质心误差,位置误差）、误差以及各误差源与位置坐标之间的关系。实验结果表明：在测量船位置精度达到0.05m,图像质心定位精度达到0.5pixel时,在最小交会误差的情况下,目标落点的位置测量误差分别为2.8,4.9,4.3m。

简介：采用电沉积方法制备了用作锂电池负极材料的锡膜,并利用扫描电镜和X射线衍射仪对其表面形貌和织构进行表征。利用鼓膜法和数字散斑相关法,对锡膜的鼓包变形进行了高精度的全场位移测量。根据测定的薄膜压力及独立膜中心点挠度曲线,结合圆形鼓膜理论模型,实验测得厚度为125μm的锡膜平均弹性模量约为23.325GPa。

简介：为研究几十微秒脉冲作用下高压气体中绝缘材料的沿面闪络特性,研制了一个高电压绝缘测试平台。该平台通过高压电容对同轴线进行谐振充电,谐振倍压可达1.6,输出电压可达350kV,充电时间约30μs。在0.4MPa高压氮气环境下对平板结构的尼龙和有机玻璃沿面闪络特性展开实验研究,利用韦伯统计分析工具,发现闪络发生概率为0.1%时,有机玻璃的沿面最大电场强度是尼龙的1.64倍。分析了两种不同刻槽结构对有机玻璃沿面闪络电压的影响,发现半圆形刻槽能更好提升沿面闪络电压,因为这种结构更能抑制电子沿材料表面的运动。