简介：[摘要]伴随国内各项科学技术持续的进步发展，真空镀膜相关技术方式也逐渐增多。那么，为今后更好地选用真空镀膜技术，就需对其原理及其优缺点予以充分了解。鉴于此，本文主要探讨不同的真空镀膜技术原理、各项优势及其缺陷，仅供业内人士参考。
简介：[摘要]全自动磁控溅射的镀膜设备，属于单靶单腔，不但能够将以往传统磁控溅射的镀膜设备所潜在靶间污染相关问题有效处理好，且以高真空的机械手实施传送片作业，工艺腔室当中真空破坏得以减少，可实现高效化地生产作业，工作效率总体提升显著。故本文主要探讨全自动磁控溅射的镀膜设备与其工艺，仅供业内参考。
不同真空镀膜技术的原理、优势与缺陷分析
全自动磁控溅射镀膜设备及工艺的探析
