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  • 简介:摘要目的研究长期反复接触低强度635 nm激光致晶状混浊特征。方法于2019年12月,采取整群抽样方法,选取2014年1月至2018年12月广东省某市生产激光水平仪车间812人作为研究对象,根据工作中接触激光情况分成对照组(不接触激光)、激光漫反射组和激光直视组进行晶状损伤回顾性观察分析。调查各组岗位激光辐照强度,分析各组员工晶状混浊部位、形态,应用二分类重复测量资料进行影响因素的统计分析。结果激光直视组员工岗位检出激光辐照度为0.72×10-4~9.92×10-4 mW/cm2,照射量为2.61×10-2~1.53 J/cm2。研究对象均有晶状混浊病变,各组均随时间增加病变增多,以激光直视组员工最多;多发生于前皮质的前极部及周边,发病形态以点状为主。激光直视组晶状混浊率按观测点顺序(岗前及第1、2、3年)分别为0%、1.99%(8/402)、4.98%(20/402)和6.72%(27/402)。单因素分析显示,激光直视组晶状混浊率较高,激光直视组第2年起晶状混浊率高(P<0.01);多因素分析显示,激光对晶状影响的组间、观测点主效应均有统计学意义(P<0.05),分组×观测点交互作用无统计学意义(P>0.05)。结论长期反复直视635 nm激光可致晶状混浊病变,需严格强化产品安全分类,生产过程中需加强激光光化学作用致损伤防护。

  • 标签: 激光 辐射 晶状体混浊 激光水平仪