集成电路制造工艺探析

摘要：本文旨在探讨集成电路制造工艺的最新进展与未来趋势。随着科技的发展，集成电路技术已成为推动现代信息技术发展的核心力量。从纳米级制程到新材料应用，集成电路制造工艺不断突破极限，提高了芯片的性能和集成度。本文将详细介绍集成电路制造工艺中的光刻、蚀刻、离子注入等关键技术，以及极紫外光刻、堆叠晶体管等新兴技术，为相关领域的研究和产业发展提供参考。

• 作者: 1周静 2李世密 3刘晓颖
• 出处: 《科技新时代》 2023年10期
• 关键词: 集成电路 制造工艺 未来趋势
• 分类: [建筑科学][建筑技术科学]