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《印制电路资讯》
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2008年2期
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旭化成大幅提升苏州厂干膜产能
旭化成大幅提升苏州厂干膜产能
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摘要
旭化成(AsahiKaseiEMD)旗下旭化成电子材料(苏州)有限公司大规模扩产工程已经动工兴建。旭化成电子材料(苏州)生产电路配线用干膜(Sunfort^TM)。扩产工程预计在08年4月完工,届时干膜年产能将由1.8亿平方米提升至2.8亿平方米,
DOI
ojnlrpvgdr/595885
作者
机构地区
不详
出处
《印制电路资讯》
2008年2期
关键词
干膜
苏州
产能
电子材料
工程
扩产
分类
[电子电信][微电子学与固体电子学]
出版日期
2008年02月12日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
印制电路资讯
2008年2期
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