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《印制电路信息》
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2006年12期
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微孔沉镀铜前处理研究
微孔沉镀铜前处理研究
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摘要
对微孔金属化前处理进行了深入的研究。利用正交实验确定了等离子清洗的最佳条件,利用全面实验研究了等离子清洗,超声波清洗,PI调整等在微孔沉镀铜方面的应用,并通过重复性实验证明了以上实验结论的可靠性,从而实现了在公司现有条件下微孔金属化的目标。
DOI
54yynlmk40/480576
作者
王慧秀;何为;何波;龙海荣
机构地区
不详
出处
《印制电路信息》
2006年12期
关键词
等离子清洗
超声波清洗
微孔金属化
正交实验设计
分类
[电子电信][微电子学与固体电子学]
出版日期
2006年12月22日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
印制电路信息
2006年12期
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