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激光退火

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摘要 SY508-3-46[篇名]Ultra-shallowjunctionformationbyatomiclayerdoping，SY508-3-47[篇名]Ultra-shallowjunctionformationbyexcimerlaserannealingofultra-lowenergyBimplantedinSi，……

DOI odwlg56e4k/344108

作者

机构地区不详

出处《热处理工艺与设备：英文版》 2005年3期

关键词激光退火热处理原子层掺杂硅光学自排列

分类 [金属学及工艺][热处理]

出版日期 2005年03月13日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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