浅析单电子晶体管工作原理与仿真分析

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摘要 采用电子束光刻技术和反应离子刻蚀等工艺,在P型SIMOX硅片上成功地制备了一种单电子晶体管。提供了一种制备量子线和量子点的工艺方法,在器件的电流、电压特性上可观测到明显的库仑阻塞效应和单电子隧穿效应。
作者 林勇
机构地区 不详
出版日期 2009年02月12日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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