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高性能氧化铱/铂纳米锥微电极表面修饰镀层研发成功

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摘要前不久,中国科学院深圳先进技术研究院医工所微纳中心研究员吴天准及其研究团队成功研发出一种具有纳米结构的高性能氧化铱/铂纳米锥复合镀层。这种高性能复合镀层有效解决了随着电极阵列化和集成化带来的高电化学阻抗、低电荷存储能力及低电荷注入能力的问题,并显著提高了神经电极的电刺激性能。

DOI ojn5ke3xjr/1750137

作者

机构地区不详

出处《表面工程与再制造》 2017年2期

关键词氧化铱复合镀层电荷存储神经电极阵列化电荷注入

分类 [金属学及工艺][金属表面处理]

出版日期 2017年02月12日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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来源期刊

表面工程与再制造

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