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酸性蚀刻中图形补偿的研究

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摘要文章通过对不同设计方式的线路侧蚀进行测试，根据测试结果对不同设计方式的线路使用不同的底片补偿，达到酸蚀后线宽一致的目的，同时还需要考虑工艺制程中对蚀刻因子的影响，如：曝光、显影和蚀刻。

DOI 54k60mp3jk/1562457

作者刘斌

机构地区不详

出处《印制电路信息》 2015年A01期

关键词侧蚀底片补偿酸蚀蚀刻因子曝光显影

分类 [电子电信][微电子学与固体电子学]

出版日期 2015年12月28日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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侧蚀底片补偿酸蚀蚀刻因子曝光显影

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