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溶胀与去钻污时间的匹配

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摘要高锰酸钾去钻污法是目前除胶渣流程广泛使用的方法,具有稳定性好,经济高效,便于操作等优点。随着各个PCB生产企业生产流程和工艺的不同,所采用的浸槽时间也不尽相同,溶胀与去钻污时间配合不好,会造成孔内钻污去不净或者过蚀的现象,所以正确掌握溶胀与去钻污的配合时间对PCB生产企业有着重要的意义。

DOI ojz7ng1z45/1470222

作者万太鹏

机构地区不详

出处《印制电路信息》 2014年10期

关键词速率控制强氧化剂膨松 SWELL 空白试验数据分析

分类 [电子电信][微电子学与固体电子学]

出版日期 2014年10月20日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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来源期刊

印制电路信息

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