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浅析真空镀膜显现潜在手印技术
浅析真空镀膜显现潜在手印技术
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摘要
介绍了真空镀膜技术的基本概念、发展现状、真空条件下镀膜所需的真空条件、手印显现原理、适用范围以及与显现非渗透性客体适用性最广的“502”熏显法之间的比较和增强处理。
DOI
pd5e86erd7/1459123
作者
李孝君;黄涪江;韩柯;吴浩
机构地区
不详
出处
《警察技术》
2015年1期
关键词
真空镀膜
潜在手印
显现
增强处理
分类
[政治法律][中外政治制度]
出版日期
2015年01月11日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
警察技术
2015年1期
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真空镀膜
潜在手印
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