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《装甲兵工程学院学报》
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1997年1期
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IBAD氮化钛中N/Ti对膜层性能影响研究
IBAD氮化钛中N/Ti对膜层性能影响研究
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摘要
研究了离子束辅助沉积(IBAD)制备氮化钛(TiN)重要参数氮钛到达比(N/Ti)对膜层性能的影响,并且采用俄歇谱分析(AES)、光电子谱分析(XPS)、X射线衍射分析(XRD)对膜层进行了相组成与成分分析,摸索了N/Ti对膜层的影响规律.
DOI
kd21mlqkj6/1055062
作者
徐龙堂;谭俊;朱绍华
机构地区
不详
出处
《装甲兵工程学院学报》
1997年1期
关键词
离子束辅助沉积(IBAD)
氮化钛(TiN)
分类
[军事][军事理论]
出版日期
1997年01月11日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
装甲兵工程学院学报
1997年1期
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